上海交通大学2024年6月政府采购意向-薄膜等离子快速消除机电子工业生产设备-预算金额万元人民币
上海交通大学2024年6月政府采购意向-薄膜等离子快速消除机电子工业生产设备-预算金额万元人民币
薄膜等离子快速消除机 | |
项目所在采购意向: | 上海交通大学2024年6月政府采购意向 |
采购单位: | 上海交通大学 |
采购项目名称: | 薄膜等离子快速消除机 |
预算金额: | 450.*万元(人民币) |
采购品目: | A*电子工业生产设备 |
采购需求概况: | 薄膜等离子快速消除机,1台,用于纳米至微米级的薄膜表面上指定区域深度的可控刻蚀,能够在薄膜表面形成纳微米级图案,并提供器件的工艺可靠性和稳定性分析。刻蚀功率:RF > 600 W,ICP > 2 kW,且连续可调;刻蚀速率:>10 nm/min,且连续可调;均匀性:8英寸范围内±5%;真空腔室整体漏率优于1 mTorr/min。具体要求详见采购文件。供货期:签订合同之日起,8个月货到指定地点并安装验收完毕。(包括供货、安装、调试、验收合格所需时间)。具体事宜由成交供货商按照采购人指定地点及时间安排要求执行。 |
预计采购时间: | 2024-06 |
备注: |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
薄膜等离子快速消除机 | |
项目所在采购意向: | 上海交通大学2024年6月政府采购意向 |
采购单位: | 上海交通大学 |
采购项目名称: | 薄膜等离子快速消除机 |
预算金额: | 450.*万元(人民币) |
采购品目: | A*电子工业生产设备 |
采购需求概况: | 薄膜等离子快速消除机,1台,用于纳米至微米级的薄膜表面上指定区域深度的可控刻蚀,能够在薄膜表面形成纳微米级图案,并提供器件的工艺可靠性和稳定性分析。刻蚀功率:RF > 600 W,ICP > 2 kW,且连续可调;刻蚀速率:>10 nm/min,且连续可调;均匀性:8英寸范围内±5%;真空腔室整体漏率优于1 mTorr/min。具体要求详见采购文件。供货期:签订合同之日起,8个月货到指定地点并安装验收完毕。(包括供货、安装、调试、验收合格所需时间)。具体事宜由成交供货商按照采购人指定地点及时间安排要求执行。 |
预计采购时间: | 2024-06 |
备注: |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
最近搜索
无
热门搜索
无