上海科技大学2024年06月政府采购意向-异型腔内壁蒸镀磁控溅射靶系统
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上海科技大学2024年06月政府采购意向-异型腔内壁蒸镀磁控溅射靶系统
| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额（元） | 预计采购时间（填写到月） | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 异型腔内壁蒸镀磁控溅射靶系统 | 名称：异型腔内壁蒸镀磁控溅射靶系统 溅射系统是高能脉冲磁控溅射系统的关键部件，其主要包括脉冲电源、RF清洗电源（靶材及腔体的清洗）、定制磁控溅射靶和自动化升降装置、磁场装置、镀膜工艺气体分析及压强和薄膜厚度测量系统、全自动控压系统以及软件控制系统等部件。由于该磁控溅射系统属于定制型仪器，所以需要按照腔体进行设计靶材以及磁场装置等，没有现成的商业产品可供直接购置。其功能主要是通过对系统软件和硬件的精确控制，实现在异形腔表面的薄膜沉积，比对其进行生长条件监控。其中靶材，RRR大于300；升降装置主要用于支撑真空腔体、并能电动升降磁环；分析和测量系统对镀膜过程气体成分、真空度以及膜厚进行实时分析，膜厚分析速率达到0.001 nm/s，采用进口英飞凌 SQC-310型 、爱发科CRTM-R1-EL型或者同等级别产品。软件控制系统需要根据购买部件进行自主软 件控制设计。 采购数量：1台 | *.00 | 2024-06 |
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| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额（元） | 预计采购时间（填写到月） | 备注 |
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| 1 | 异型腔内壁蒸镀磁控溅射靶系统 | 名称：异型腔内壁蒸镀磁控溅射靶系统 溅射系统是高能脉冲磁控溅射系统的关键部件，其主要包括脉冲电源、RF清洗电源（靶材及腔体的清洗）、定制磁控溅射靶和自动化升降装置、磁场装置、镀膜工艺气体分析及压强和薄膜厚度测量系统、全自动控压系统以及软件控制系统等部件。由于该磁控溅射系统属于定制型仪器，所以需要按照腔体进行设计靶材以及磁场装置等，没有现成的商业产品可供直接购置。其功能主要是通过对系统软件和硬件的精确控制，实现在异形腔表面的薄膜沉积，比对其进行生长条件监控。其中靶材，RRR大于300；升降装置主要用于支撑真空腔体、并能电动升降磁环；分析和测量系统对镀膜过程气体成分、真空度以及膜厚进行实时分析，膜厚分析速率达到0.001 nm/s，采用进口英飞凌 SQC-310型 、爱发科CRTM-R1-EL型或者同等级别产品。软件控制系统需要根据购买部件进行自主软 件控制设计。 采购数量：1台 | *.00 | 2024-06 |
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