A*电化学分析仪器

原子层沉积设备以单原子膜形式逐层镀在基底表面，与普通的化学沉积有相似之处，但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，每次反应只沉积一层原子。用于先进钙钛矿太阳电池中金属氧化物薄膜SnO2，Al2O3，TiO2等的沉积。原子层沉积功能：1)设备类型：真空外加热水平横流式镀膜，加热系统在真空室外，反应气体和载气不可以任何方式接触加热器，反应物和吹扫气流在腔室一侧流出，从基片一边水平流经基片后，从腔室另一侧的真空抽气口进入真空泵。2)载片量及尺寸：400×400mm向下兼容。3)真空计：配置薄膜真空计+皮拉尼真空计用于真空测量，测量范围5E-5 torr-大气压。4)控制系统：配置高精度PLC+工控机沉积自动控制系统，满足高精度ALD沉积需求图像化的操作界面，实时显示系统各部分运行状态。原子层沉积主要参数：1)反应区温度：要求在50-150 ℃之间可以均匀成膜，反应温度不得超过120 ℃；2)前驱体源：3路金属源，1路水源，金 (略) 加热温度RT-200 ℃；金属源及水源分 (略) N2流量计控制流量。

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原子层沉积设备以单原子膜形式逐层镀在基底表面，与普通的化学沉积有相似之处，但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，每次反应只沉积一层原子。用于先进钙钛矿太阳电池中金属氧化物薄膜SnO2，Al2O3，TiO2等的沉积。原子层沉积功能：1)设备类型：真空外加热水平横流式镀膜，加热系统在真空室外，反应气体和载气不可以任何方式接触加热器，反应物和吹扫气流在腔室一侧流出，从基片一边水平流经基片后，从腔室另一侧的真空抽气口进入真空泵。2)载片量及尺寸：400×400mm向下兼容。3)真空计：配置薄膜真空计+皮拉尼真空计用于真空测量，测量范围5E-5 torr-大气压。4)控制系统：配置高精度PLC+工控机沉积自动控制系统，满足高精度ALD沉积需求图像化的操作界面，实时显示系统各部分运行状态。原子层沉积主要参数：1)反应区温度：要求在50-150 ℃之间可以均匀成膜，反应温度不得超过120 ℃；2)前驱体源：3路金属源，1路水源，金 (略) 加热温度RT-200 ℃；金属源及水源分 (略) N2流量计控制流量。