松山湖材料实验室2024年05月至2024年09月政府采购意向

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松山湖材料实验室2024年05月至2024年09月政府采购意向

公告信息
公告标题 松山湖材料实验室2024年05月至2024年09月政府采购意向
公告发布时间 2024-05-29 11:20:00
公告性质 正常公告
公告编号 8a7e7b388faa2fe7018fc24a03a00f8e
公告内容

为便于供应商及时了解政府采购信息,根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》(财库〔2020〕10号)等有关规定,现将本单位2024年05月至2024年09月采购意向公开如下:

序号 采购项目名称 采购需求概况 落实政府采购政策情况 预算金额(元) 预计采购时间 备注
1 松山湖材料实验室氩离子研磨仪采购项目
标的名称:氩离子研磨仪
标的数量:1
主要功能或目标:在材料科学研究中,氩离子研磨仪是研究和表征材料表面的重要工具,能够制备出高质量、无损伤的材料表面,这对于后续的电子显微分析至关重要,被广泛应用于金属材料、半导体材料、陶瓷材料以及电池极片等材料体系当中。
需满足的要求:"1、加速电压:0-8kV; 2、截面加工速度:截面加工≥1000μm/h,(8kV的条件下,Si片); 3、截面加工宽度范围:≥7mm; 4、截面加工最大样品尺寸:20(W)×12(D)×7(H)mm; 5、平面加工最大样品尺寸:≥Φ50mm×25(H)mm; 6、样品抛光区域:≥Φ32mm; 7、低温控制功能:通过液氮间接冷却样品,温度设定范围0~-100℃。"
遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 2,* 2024年06月
2 松山湖材料实验室双面带材种子织构层系统采购项目
标的名称:双面带材种子织构层系统
标的数量:1
主要功能或目标:完成离子束辅助沉积双面带材种子层以及自外延生长设备及其生长工艺,一套设备为离子束辅助沉积设备,一套设备为自外延沉积设备,两套设备必须互相兼容。
需满足的要求:双面带材连续卷绕,双面必须同时沉积并获取织构。自外延层带材连续生长,所有参数必须与双面超导带材种子层系统匹配,带材连续制备系统配备标准工艺流程文件。技术指标:自外延MgO面外半高宽小于4°,面内半高宽小于8°表面粗糙度2微米范围小于2nm。
遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 9,* 2024年07月
3 松山湖材料实验室双面带材超导层外延系统采购项目
标的名称:双面带材超导层外延系统
标的数量:1
主要功能或目标:完成双面超导层MOCVD沉积设备,LaMnO3外延层溅射设备,基带表面平整化设备,所有设备制备样品互相兼容。
需满足的要求:双面带材连续卷绕,双面必须同时沉积并获取织构。MOCVD和溅射加热方式采用双面加热。所有设备互相匹配,带材连续制备系统配备标准工艺流程文件。技术指标:LaMnO3外延层,面外半高宽小于3°,面内半高宽小于7°表面粗糙度2微米范围小于5nm;MOCVD超导层双面短样载流达到500A/12mm @77K。表面平整度化设备平整度2微米范围粗糙度小于3nm。
遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 8,* 2024年07月
4 松山湖材料实验室双面带材Ag溅射系统采购项目
标的名称:双面带材Ag溅射系统
标的数量:1
主要功能或目标:完成双面带材表面镀银溅射设备,双面带材同时沉积,配备卷绕系统,自动控制系统,真空系统,溅射系统等
需满足的要求:双面带材连续卷绕,双面必须同时沉积,直流溅射,最终交付需提供标准工艺流程文件。技术指标:银厚度2微米,带材制备效率50m/小时
遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 3,* 2024年09月

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

松山湖材料实验室

2024年05月29日

公告信息
公告标题 松山湖材料实验室2024年05月至2024年09月政府采购意向
公告发布时间 2024-05-29 11:20:00
公告性质 正常公告
公告编号 8a7e7b388faa2fe7018fc24a03a00f8e
公告内容

为便于供应商及时了解政府采购信息,根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》(财库〔2020〕10号)等有关规定,现将本单位2024年05月至2024年09月采购意向公开如下:

序号 采购项目名称 采购需求概况 落实政府采购政策情况 预算金额(元) 预计采购时间 备注
1 松山湖材料实验室氩离子研磨仪采购项目
标的名称:氩离子研磨仪
标的数量:1
主要功能或目标:在材料科学研究中,氩离子研磨仪是研究和表征材料表面的重要工具,能够制备出高质量、无损伤的材料表面,这对于后续的电子显微分析至关重要,被广泛应用于金属材料、半导体材料、陶瓷材料以及电池极片等材料体系当中。
需满足的要求:"1、加速电压:0-8kV; 2、截面加工速度:截面加工≥1000μm/h,(8kV的条件下,Si片); 3、截面加工宽度范围:≥7mm; 4、截面加工最大样品尺寸:20(W)×12(D)×7(H)mm; 5、平面加工最大样品尺寸:≥Φ50mm×25(H)mm; 6、样品抛光区域:≥Φ32mm; 7、低温控制功能:通过液氮间接冷却样品,温度设定范围0~-100℃。"
遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 2,* 2024年06月
2 松山湖材料实验室双面带材种子织构层系统采购项目
标的名称:双面带材种子织构层系统
标的数量:1
主要功能或目标:完成离子束辅助沉积双面带材种子层以及自外延生长设备及其生长工艺,一套设备为离子束辅助沉积设备,一套设备为自外延沉积设备,两套设备必须互相兼容。
需满足的要求:双面带材连续卷绕,双面必须同时沉积并获取织构。自外延层带材连续生长,所有参数必须与双面超导带材种子层系统匹配,带材连续制备系统配备标准工艺流程文件。技术指标:自外延MgO面外半高宽小于4°,面内半高宽小于8°表面粗糙度2微米范围小于2nm。
遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 9,* 2024年07月
3 松山湖材料实验室双面带材超导层外延系统采购项目
标的名称:双面带材超导层外延系统
标的数量:1
主要功能或目标:完成双面超导层MOCVD沉积设备,LaMnO3外延层溅射设备,基带表面平整化设备,所有设备制备样品互相兼容。
需满足的要求:双面带材连续卷绕,双面必须同时沉积并获取织构。MOCVD和溅射加热方式采用双面加热。所有设备互相匹配,带材连续制备系统配备标准工艺流程文件。技术指标:LaMnO3外延层,面外半高宽小于3°,面内半高宽小于7°表面粗糙度2微米范围小于5nm;MOCVD超导层双面短样载流达到500A/12mm @77K。表面平整度化设备平整度2微米范围粗糙度小于3nm。
遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 8,* 2024年07月
4 松山湖材料实验室双面带材Ag溅射系统采购项目
标的名称:双面带材Ag溅射系统
标的数量:1
主要功能或目标:完成双面带材表面镀银溅射设备,双面带材同时沉积,配备卷绕系统,自动控制系统,真空系统,溅射系统等
需满足的要求:双面带材连续卷绕,双面必须同时沉积,直流溅射,最终交付需提供标准工艺流程文件。技术指标:银厚度2微米,带材制备效率50m/小时
遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 3,* 2024年09月

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

松山湖材料实验室

2024年05月29日

    
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