上海大学2024年08月政府采购意向-超高真空多靶磁控溅射镀膜仪
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上海大学2024年08月政府采购意向-超高真空多靶磁控溅射镀膜仪
| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额（元） | 预计采购时间（填写到月） | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 超高真空多靶磁控溅射镀膜仪 | 超高真空多靶磁控溅射镀膜仪，1套。用于制备高质量薄膜或涂层材料。配真空进样室与真空镀膜室，莱宝分子泵，沉积室极限真空：优于3x10-6Pa；样品台尺寸：4英寸；电源配置:4个直流和1个射频源；衬底最高加热温度：800 ℃；膜厚均匀性：均匀性优于±3.5%；靶位数量：5块； (略) 气体。供货周期：收到预付款货款后16 周内，质保1年。 | *.00 | 2024-08 |
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| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额（元） | 预计采购时间（填写到月） | 备注 |
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| 1 | 超高真空多靶磁控溅射镀膜仪 | 超高真空多靶磁控溅射镀膜仪，1套。用于制备高质量薄膜或涂层材料。配真空进样室与真空镀膜室，莱宝分子泵，沉积室极限真空：优于3x10-6Pa；样品台尺寸：4英寸；电源配置:4个直流和1个射频源；衬底最高加热温度：800 ℃；膜厚均匀性：均匀性优于±3.5%；靶位数量：5块； (略) 气体。供货周期：收到预付款货款后16 周内，质保1年。 | *.00 | 2024-08 |
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