南京大学2024年8至11月政府采购意向-自旋材料超高真空磁控溅射设备详细情况万元人民币

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南京大学2024年8至11月政府采购意向-自旋材料超高真空磁控溅射设备详细情况万元人民币

自旋材料超高真空磁控溅射设备
项目所在采购意向: 南京大学2024年8至11月政府采购意向
采购单位: 南京大学
采购项目名称: 自旋材料超高真空磁控溅射设备
预算金额: 1450.*万元(人民币)
采购品目:
A* 真空应用设备
采购需求概况 :
南京大学拟采购自旋材料超高真空磁控溅射设备一套,要求:1.具有两个沉积工艺腔室,每个沉积腔集成至少6个3英寸可原位偏转超高真空共溅射靶枪,并预留1个3英寸正溅射靶枪接口。所有靶枪均采用稀土磁铁,磁铁和冷却水隔离;所有靶枪可以承受200℃烘烤和10-11 Torr真空;2.电动控制连续旋转样品台,旋转速率控范围为0~20rpm,样品台上基片最高加热温度800℃,PID温控精度±1℃,具有射频偏压功能;3.在6英寸(去除边缘5mm)的基片范围内薄膜沉积均匀性可达到±1.5%;4.主腔体极限真空优于6.75x10-9 Torr,采用下游压力控制并配1000位阀门。质保期:1年。
预计采购时间: 2024-11
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

,南京
自旋材料超高真空磁控溅射设备
项目所在采购意向: 南京大学2024年8至11月政府采购意向
采购单位: 南京大学
采购项目名称: 自旋材料超高真空磁控溅射设备
预算金额: 1450.*万元(人民币)
采购品目:
A* 真空应用设备
采购需求概况 :
南京大学拟采购自旋材料超高真空磁控溅射设备一套,要求:1.具有两个沉积工艺腔室,每个沉积腔集成至少6个3英寸可原位偏转超高真空共溅射靶枪,并预留1个3英寸正溅射靶枪接口。所有靶枪均采用稀土磁铁,磁铁和冷却水隔离;所有靶枪可以承受200℃烘烤和10-11 Torr真空;2.电动控制连续旋转样品台,旋转速率控范围为0~20rpm,样品台上基片最高加热温度800℃,PID温控精度±1℃,具有射频偏压功能;3.在6英寸(去除边缘5mm)的基片范围内薄膜沉积均匀性可达到±1.5%;4.主腔体极限真空优于6.75x10-9 Torr,采用下游压力控制并配1000位阀门。质保期:1年。
预计采购时间: 2024-11
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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