上海大学2024年08月政府采购意向-半导体显示器件高精度制造及性能表征系统
上海大学2024年08月政府采购意向-半导体显示器件高精度制造及性能表征系统
序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额(元) | 预计采购时间(填写到月) | 备注 |
---|---|---|---|---|---|
1 | 半导体显示器件高精度制造及性能表征系统 | 本设备用于蒸镀各种金属及有机膜层,内设:4套挂丝式金属源(适用于Au、Ag、Al等材料),8套有机源,4通道进口膜厚仪及探头,4个通道可同时检测,带膜厚控制与掺杂蒸发功能,PLC自动控制,具备逻 (略) ,自动识别、防止误操作。 技术参数:真空室极限真空度:6×10??Pa,膜厚不均匀度:≤3%。加热源参数:有机源:加热温度范围为室温~800℃,精度±1℃,支持温度或电流控制。金属源:电流控制,加电流范围0~200A,精度±0.2A。 | *.00 | 2024-08 |
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序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额(元) | 预计采购时间(填写到月) | 备注 |
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1 | 半导体显示器件高精度制造及性能表征系统 | 本设备用于蒸镀各种金属及有机膜层,内设:4套挂丝式金属源(适用于Au、Ag、Al等材料),8套有机源,4通道进口膜厚仪及探头,4个通道可同时检测,带膜厚控制与掺杂蒸发功能,PLC自动控制,具备逻 (略) ,自动识别、防止误操作。 技术参数:真空室极限真空度:6×10??Pa,膜厚不均匀度:≤3%。加热源参数:有机源:加热温度范围为室温~800℃,精度±1℃,支持温度或电流控制。金属源:电流控制,加电流范围0~200A,精度±0.2A。 | *.00 | 2024-08 |
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