深圳大学Si抛光及清洗系统意向公开-电子工业生产设备
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深圳大学Si抛光及清洗系统意向公开-电子工业生产设备
| 采购单位: | 深圳大学 |
| 项目名称: | Si抛光及清洗系统 |
| 预算金额（元）: | 4,* |
| 采购品目: | 电子工业生产设备 |
| 采购需求概况: | 利用抛光液和抛光垫对硅/二氧化硅表面进行机械化学抛光，去除表面不平整和损伤层，为后续工艺步骤如光刻、刻蚀等提供高质量衬底。通过精确的抛光液供给，实现抛光过程精确控制，确保一致性和稳定性；合适的抛光垫材质和驱动参数可显著提高抛光效率和抛光质量，减少划痕和损伤。实现深度清洗，去除微小污垢和残留物，同时保持平整度和光洁度。通过纯水漂洗，确保清洁度达到工艺要求，避免后续工艺的交叉污染。需满足高质量抛光及清洗功能，满足安全操作和智能使用，保证1年免费质保服务。 |
| 联系人: | 袁老师 |
| 联系电话: | * |
| 预计采购时间: | 2024-09 |
| 备注: | 无 |
| 采购单位: | 深圳大学 |
| 项目名称: | Si抛光及清洗系统 |
| 预算金额（元）: | 4,* |
| 采购品目: | 电子工业生产设备 |
| 采购需求概况: | 利用抛光液和抛光垫对硅/二氧化硅表面进行机械化学抛光，去除表面不平整和损伤层，为后续工艺步骤如光刻、刻蚀等提供高质量衬底。通过精确的抛光液供给，实现抛光过程精确控制，确保一致性和稳定性；合适的抛光垫材质和驱动参数可显著提高抛光效率和抛光质量，减少划痕和损伤。实现深度清洗，去除微小污垢和残留物，同时保持平整度和光洁度。通过纯水漂洗，确保清洁度达到工艺要求，避免后续工艺的交叉污染。需满足高质量抛光及清洗功能，满足安全操作和智能使用，保证1年免费质保服务。 |
| 联系人: | 袁老师 |
| 联系电话: | * |
| 预计采购时间: | 2024-09 |
| 备注: | 无 |
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