深圳大学介质刻蚀及镀膜系统意向公开-真空应用设备
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深圳大学介质刻蚀及镀膜系统意向公开-真空应用设备
| 采购单位: | 深圳大学 |
| 项目名称: | 介质刻蚀及镀膜系统 |
| 预算金额（元）: | 7,* |
| 采购品目: | 真空应用设备 |
| 采购需求概况: | 介质刻蚀该设备采用感应耦合等离子体（ICP）方式产生高密度等离子体，实现对硅、介质材料和有机材料的选择性干法刻蚀。电子束蒸发设备用于镀制各种金属和非金属单层膜、多层膜。主要用于制备纳米器件、有机光电器件的金属电极，以及制备用于生长纳米材料的各类薄膜层。 |
| 联系人: | 韩老师 |
| 联系电话: | * |
| 预计采购时间: | 2024-09 |
| 备注: | 无 |
| 采购单位: | 深圳大学 |
| 项目名称: | 介质刻蚀及镀膜系统 |
| 预算金额（元）: | 7,* |
| 采购品目: | 真空应用设备 |
| 采购需求概况: | 介质刻蚀该设备采用感应耦合等离子体（ICP）方式产生高密度等离子体，实现对硅、介质材料和有机材料的选择性干法刻蚀。电子束蒸发设备用于镀制各种金属和非金属单层膜、多层膜。主要用于制备纳米器件、有机光电器件的金属电极，以及制备用于生长纳米材料的各类薄膜层。 |
| 联系人: | 韩老师 |
| 联系电话: | * |
| 预计采购时间: | 2024-09 |
| 备注: | 无 |
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