离子束刻蚀系统详细情况800.000000万元(人民币)招标预告
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离子束刻蚀系统详细情况800.000000万元(人民币)招标预告
| 离子束刻蚀系统 | |
| 项目所在采购意向： | 中国科学技术大学2024年9至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中国科学技术大学 |
| 采购项目名称： | 离子束刻蚀系统 |
| 预算金额： | 800.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他仪器仪表 |
| 采购需求概况 ： | 1. 样品尺寸：max 6inch 2. Source：22cm直径射频离子源，最大功率≥1000w，离子束能量范围100~1000eV,离子束束流范围0~1000mA 3. Substrate Holder：尺寸200mm，面内360°旋转转速0~20rmp，倾斜角度范围-90~+65° 4. 配置chiller冷却，温度控制范围5~35℃，工艺时He气背冷 5. 气路≥6路 6.分子泵抽速≥2100L/s，前级干泵抽速≥600m3/h |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 离子束刻蚀系统 | |
| 项目所在采购意向： | 中国科学技术大学2024年9至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中国科学技术大学 |
| 采购项目名称： | 离子束刻蚀系统 |
| 预算金额： | 800.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他仪器仪表 |
| 采购需求概况 ： | 1. 样品尺寸：max 6inch 2. Source：22cm直径射频离子源，最大功率≥1000w，离子束能量范围100~1000eV,离子束束流范围0~1000mA 3. Substrate Holder：尺寸200mm，面内360°旋转转速0~20rmp，倾斜角度范围-90~+65° 4. 配置chiller冷却，温度控制范围5~35℃，工艺时He气背冷 5. 气路≥6路 6.分子泵抽速≥2100L/s，前级干泵抽速≥600m3/h |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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