中国科学技术大学2024年9至12月政府意向-离子束溅射沉积详细情况290.000000万元(人民币
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中国科学技术大学2024年9至12月政府意向-离子束溅射沉积详细情况290.000000万元(人民币
| 离子束溅射沉积 | |
| 项目所在采购意向： | 中国科学技术大学2024年9至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中国科学技术大学 |
| 采购项目名称： | 离子束溅射沉积 |
| 预算金额： | 290.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他仪器仪表 |
| 采购需求概况 ： | 1.主源能量不低于1000ev； 2.辅助源不低于500ev 3.晶圆尺寸不低于6寸； 4. 靶材位*4，6英寸，水冷，可旋转。 5. 衬底6英寸，可旋转，可倾斜，可加热最高温度≥300℃； 6.镀膜均匀性：均匀性优于±3%（4寸晶圆去边10mm以内）； 7.氧化硅薄膜（100nm厚度）粗糙镀低于0.5nm； |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 离子束溅射沉积 | |
| 项目所在采购意向： | 中国科学技术大学2024年9至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中国科学技术大学 |
| 采购项目名称： | 离子束溅射沉积 |
| 预算金额： | 290.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他仪器仪表 |
| 采购需求概况 ： | 1.主源能量不低于1000ev； 2.辅助源不低于500ev 3.晶圆尺寸不低于6寸； 4. 靶材位*4，6英寸，水冷，可旋转。 5. 衬底6英寸，可旋转，可倾斜，可加热最高温度≥300℃； 6.镀膜均匀性：均匀性优于±3%（4寸晶圆去边10mm以内）； 7.氧化硅薄膜（100nm厚度）粗糙镀低于0.5nm； |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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