高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统招标预告

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高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统招标预告

高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统
项目所在采购意向: 华中科技大学2024年10至12月政府采购意向
采购单位: 华中科技大学
采购项目名称: 高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统
预算金额: 350.*万元(人民币)
采购品目:
A*真空应用设备
采购需求概况 :
拟购高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统1套。 主要技术指标: 1、基片尺寸:8 英寸(兼容小尺寸基片) 2、配备溅射室和进样室双腔室 3、磁控溅射靶:8英寸,3套; 4、配置1套直流电源,2套射频电源: 5、 (略) 工艺气体氩气,氮气,氧气 6、膜厚均匀性:TiN薄膜300nm在8英寸内非均匀性≤5%,可沉积AlScN薄膜(9点测试)
预计采购时间: 2024-10
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统
项目所在采购意向: 华中科技大学2024年10至12月政府采购意向
采购单位: 华中科技大学
采购项目名称: 高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统
预算金额: 350.*万元(人民币)
采购品目:
A*真空应用设备
采购需求概况 :
拟购高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统1套。 主要技术指标: 1、基片尺寸:8 英寸(兼容小尺寸基片) 2、配备溅射室和进样室双腔室 3、磁控溅射靶:8英寸,3套; 4、配置1套直流电源,2套射频电源: 5、 (略) 工艺气体氩气,氮气,氧气 6、膜厚均匀性:TiN薄膜300nm在8英寸内非均匀性≤5%,可沉积AlScN薄膜(9点测试)
预计采购时间: 2024-10
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

    
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