铪基铁电薄膜原子层沉积系统招标预告
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铪基铁电薄膜原子层沉积系统招标预告
| 铪基铁电薄膜原子层沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | 华中科技大学2024年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 华中科技大学 |
| 采购项目名称： | 铪基铁电薄膜原子层沉积系统 |
| 预算金额： | 350.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*真空应用设备 |
| 采购需求概况 ： | 拟购铪基铁电薄膜原子层沉积系统1套。 主要技术指标： 1、反应腔兼容8英寸以下的衬底，工艺温度为室温至500℃； 2、配备6条的前 (略) ，3路常温液态源系统，3路加热源系统，管路最高加热温度300℃； 3、配备预真空系统； 4、配置1套氧气和臭氧气 (略) ； 5、沉积HfO2 (TEMAHf +H2O)，8英寸内薄膜厚度不均匀性≤2%，沉积ZrO2 (TEMAZr +H2O)，8英寸内薄膜厚度不均匀性≤2%。（ 1sigma, 边缘去除5mm, 薄膜厚度采用椭偏仪测试） |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 铪基铁电薄膜原子层沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | 华中科技大学2024年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 华中科技大学 |
| 采购项目名称： | 铪基铁电薄膜原子层沉积系统 |
| 预算金额： | 350.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*真空应用设备 |
| 采购需求概况 ： | 拟购铪基铁电薄膜原子层沉积系统1套。 主要技术指标： 1、反应腔兼容8英寸以下的衬底，工艺温度为室温至500℃； 2、配备6条的前 (略) ，3路常温液态源系统，3路加热源系统，管路最高加热温度300℃； 3、配备预真空系统； 4、配置1套氧气和臭氧气 (略) ； 5、沉积HfO2 (TEMAHf +H2O)，8英寸内薄膜厚度不均匀性≤2%，沉积ZrO2 (TEMAZr +H2O)，8英寸内薄膜厚度不均匀性≤2%。（ 1sigma, 边缘去除5mm, 薄膜厚度采用椭偏仪测试） |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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