复旦大学2024年10月政府采购意向-半导体介质垂直溅射系统详细情况万元人民币
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复旦大学2024年10月政府采购意向-半导体介质垂直溅射系统详细情况万元人民币
| 半导体介质垂直溅射系统 | |
| 项目所在采购意向： | 复旦大学2024年10月政府采购意向 |
| 采购单位： | 复旦大学 |
| 采购项目名称： | 半导体介质垂直溅射系统 |
| 预算金额： | 360.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A* 电子工业生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 本底真空优于 5x10-8mbar；配有旋转加热样品台，样品可以通过辐射方式加热，最高加热温度 800℃，通过PID 温控仪实现温度精确控制；Ar，设备入口压力要求：1-2 kg/cm2，纯度>4N5；N2，设备入口压力要求：1-2 kg/cm2，纯度>4N5；O2，设备入口压力要求：1-2 kg/cm2，纯度>4N5； (略) 入口接头：外径 6.35 mm。 |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 半导体介质垂直溅射系统 | |
| 项目所在采购意向： | 复旦大学2024年10月政府采购意向 |
| 采购单位： | 复旦大学 |
| 采购项目名称： | 半导体介质垂直溅射系统 |
| 预算金额： | 360.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A* 电子工业生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 本底真空优于 5x10-8mbar；配有旋转加热样品台，样品可以通过辐射方式加热，最高加热温度 800℃，通过PID 温控仪实现温度精确控制；Ar，设备入口压力要求：1-2 kg/cm2，纯度>4N5；N2，设备入口压力要求：1-2 kg/cm2，纯度>4N5；O2，设备入口压力要求：1-2 kg/cm2，纯度>4N5； (略) 入口接头：外径 6.35 mm。 |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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