华南理工大学2024年11月政府采购意向-离子束刻蚀系统详细情况万元人民币
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华南理工大学2024年11月政府采购意向-离子束刻蚀系统详细情况万元人民币
| 离子束刻蚀系统 | |
| 项目所在采购意向： | 华南理工大学2024年11月政府采购意向 |
| 采购单位： | 华南理工大学 |
| 采购项目名称： | 离子束刻蚀系统 |
| 预算金额： | 580.(略)万元(人民币) |
| 采购品目： | A(略)其他电工、电子生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 离子束刻蚀系统主要用于芯片制造过程中的各种材料，特别是金属材料等的刻蚀。需要满足8寸及以下晶圆和小片刻蚀；配备采用RF ICP 离子源，刻蚀均匀性优于 5%；载片台具备背 He 气体冷却装置，自转转速可调；包含进样室；具备终点检测功能。设备稳定性和可重复性好，刻蚀速率可精确调控。设备维护简单，保修期不低于2年。 |
| 预计采购时间： | 2024-11 |
| 备注： | 欢迎供应商提供相关产品或服务信息，产品资料可发送至采购人邮箱：*@*ttp://**，邮件标题：“点击查看>>**采购意向推荐产品”,联系电话：020-(略)。 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 离子束刻蚀系统 | |
| 项目所在采购意向： | 华南理工大学2024年11月政府采购意向 |
| 采购单位： | 华南理工大学 |
| 采购项目名称： | 离子束刻蚀系统 |
| 预算金额： | 580.(略)万元(人民币) |
| 采购品目： | A(略)其他电工、电子生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 离子束刻蚀系统主要用于芯片制造过程中的各种材料，特别是金属材料等的刻蚀。需要满足8寸及以下晶圆和小片刻蚀；配备采用RF ICP 离子源，刻蚀均匀性优于 5%；载片台具备背 He 气体冷却装置，自转转速可调；包含进样室；具备终点检测功能。设备稳定性和可重复性好，刻蚀速率可精确调控。设备维护简单，保修期不低于2年。 |
| 预计采购时间： | 2024-11 |
| 备注： | 欢迎供应商提供相关产品或服务信息，产品资料可发送至采购人邮箱：*@*ttp://**，邮件标题：“点击查看>>**采购意向推荐产品”,联系电话：020-(略)。 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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