A# 电子工业生产设备

1. 方箱型304不锈钢腔； 2. 腔室的极限压强可达5 ×10-7 Torr以下； 3. 腔室具备不少于5支溅射靶枪，靶材尺寸为3英寸，其中1个为强磁靶； 4. 靶枪最低工作压强可达0.7mTorr； 5. 配置一台功率为1000W的直流电源；一台功率为1500W的直流电源；一台功率为2000W的脉冲直流电源，脉冲频率2-100kHz可调；两台功率为300W的RF电源，带有自动匹配器和控制器； 6. 最大可沉积样品直径达到6英寸（150mm），沉积样品尺寸可向下兼容； 7. 样品台兼容加热功能，衬底温度从室温到800℃可调； 8. 电机控制基片原位自转，转速0-20 rpm内可调； 9. 具有进样室，进样室可传输样品直径达到6英寸（150mm），进样尺寸可向下兼容； 10. 具有计算机控制系统，可通过程序控制系统状态。 11. 具有安全互锁装置。 12. 镀膜片内厚度均匀性指标：3英寸靶枪在6英寸硅片镀制150nm以上的金属薄膜，均匀性不大于+5%；均匀性采样方法为从基片中心到基片边缘每隔0.5英寸取一个测量点（去掉5mm边缘），使用台阶仪对每个点测量三次，取平均值，均匀性计算公式：±均匀性=((最大–最小) / (2 × 平均))× 100%； 13. 镀膜批次间厚度均匀性：3英寸靶枪在6英寸硅片镀制150nm以上的金属薄膜，连续镀3个批次样品，批次间厚度均匀性不大于+5%。

A# 电子工业生产设备

1. 方箱型304不锈钢腔； 2. 腔室的极限压强可达5 ×10-7 Torr以下； 3. 腔室具备不少于5支溅射靶枪，靶材尺寸为3英寸，其中1个为强磁靶； 4. 靶枪最低工作压强可达0.7mTorr； 5. 配置一台功率为1000W的直流电源；一台功率为1500W的直流电源；一台功率为2000W的脉冲直流电源，脉冲频率2-100kHz可调；两台功率为300W的RF电源，带有自动匹配器和控制器； 6. 最大可沉积样品直径达到6英寸（150mm），沉积样品尺寸可向下兼容； 7. 样品台兼容加热功能，衬底温度从室温到800℃可调； 8. 电机控制基片原位自转，转速0-20 rpm内可调； 9. 具有进样室，进样室可传输样品直径达到6英寸（150mm），进样尺寸可向下兼容； 10. 具有计算机控制系统，可通过程序控制系统状态。 11. 具有安全互锁装置。 12. 镀膜片内厚度均匀性指标：3英寸靶枪在6英寸硅片镀制150nm以上的金属薄膜，均匀性不大于+5%；均匀性采样方法为从基片中心到基片边缘每隔0.5英寸取一个测量点（去掉5mm边缘），使用台阶仪对每个点测量三次，取平均值，均匀性计算公式：±均匀性=((最大–最小) / (2 × 平均))× 100%； 13. 镀膜批次间厚度均匀性：3英寸靶枪在6英寸硅片镀制150nm以上的金属薄膜，连续镀3个批次样品，批次间厚度均匀性不大于+5%。