材料高通量制备教学训练平台意向公告（第二次）招标预告
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材料高通量制备教学训练平台意向公告（第二次）招标预告
为便于供应商了解采购信息，根据《物资服务集中采购需求管理暂行办法》等有关规定，现将材料高 (略) 的采购意向公开如下：
| 序号 | 采购项目名称 | 需求概况 | 初步技术参数 | 预算金额(万元) | 预计采购时间 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 材料高 (略) | 采购内容：材料高 (略) 1套，包括3个系统：材料快速制备演示系统1套（预算*元），材料表征实训系统1套（预算*元），材料计算、设计优化演示系统1套（预算*元）。 采购数量：1套 主要功能或目标：平台主要用于满足教学和科研需求，主要功能涉及材料基因组理论教学演示，多种材料高通量制备的教学演示，材料微观结构和性能表征的教学演示，以及材料设计优化的教学演示等。 需满足的要求：可开展材料制备、预/后处理的教学讲解与演示，以及材料微观结构与性能测试表征的实验演示。 | 1 材料快速制备演示系统，主要需要1台惰性气体手套箱，技术参数为：（1）双工位；（2）水、氧含量低于1ppm；（3）可在氮气、氩气等气体下工作；（4）具有气体循环净化系统，可全自动控制实现箱内气体快洗；（5）氧探头检测范围为0-1000 ppm，水探头检测范围为0-500 ppm；2 材料表征实训系统，主要需要一台材料切割设备，技术参数为：（1）功率不低于2700W；（2）最低主轴转速不高于300rpm，最高主轴转速不低于6000rpm；（3）位移：Y轴不小于250mm，Z轴不小于60mm；（4）可切直径不小于50mm圆柱、不小于50*180mm方体；（5）切割可视化、自动化，切割安全性高；（6）具备多种切割模式，可实现个性化切割组合；3 材料计算、设计优化演示系统，主要需要一台磁控溅射真空镀膜设备，技术参数为：（1）主腔室：本底真空优于8×10-6 Pa，可实现与其他真空镀膜系统互联；（2）气路系统：包含氩气、氧气、氮气至少3 (略) 和1个氮 (略) ；（3）样品台：基片尺寸可达2英寸，最低可加热至900℃，基片可在Z方向移动和沿phi轴转动；（4）4套靶枪，其中至少包含1套强磁场靶枪；（5）配备高压反射电子衍射（RHEED）系统；（6）具有成熟的操控软件系统，可控制温度、位移、气体流量、镀膜程序等；（7）配备水冷系统。 | 213.00 | 2024年09月 | 无 |
注：1.本次意向公开的采购意向仅作为供应商了解初步采购安排的参考，采购项目具体情况以最终发布的采购公告和采购文件为准；
2.供 (略) 反馈参与意向和意见建议。
联系人：李女士
联系方式：*
为便于供应商了解采购信息，根据《物资服务集中采购需求管理暂行办法》等有关规定，现将材料高 (略) 的采购意向公开如下：
| 序号 | 采购项目名称 | 需求概况 | 初步技术参数 | 预算金额(万元) | 预计采购时间 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 材料高 (略) | 采购内容：材料高 (略) 1套，包括3个系统：材料快速制备演示系统1套（预算*元），材料表征实训系统1套（预算*元），材料计算、设计优化演示系统1套（预算*元）。 采购数量：1套 主要功能或目标：平台主要用于满足教学和科研需求，主要功能涉及材料基因组理论教学演示，多种材料高通量制备的教学演示，材料微观结构和性能表征的教学演示，以及材料设计优化的教学演示等。 需满足的要求：可开展材料制备、预/后处理的教学讲解与演示，以及材料微观结构与性能测试表征的实验演示。 | 1 材料快速制备演示系统，主要需要1台惰性气体手套箱，技术参数为：（1）双工位；（2）水、氧含量低于1ppm；（3）可在氮气、氩气等气体下工作；（4）具有气体循环净化系统，可全自动控制实现箱内气体快洗；（5）氧探头检测范围为0-1000 ppm，水探头检测范围为0-500 ppm；2 材料表征实训系统，主要需要一台材料切割设备，技术参数为：（1）功率不低于2700W；（2）最低主轴转速不高于300rpm，最高主轴转速不低于6000rpm；（3）位移：Y轴不小于250mm，Z轴不小于60mm；（4）可切直径不小于50mm圆柱、不小于50*180mm方体；（5）切割可视化、自动化，切割安全性高；（6）具备多种切割模式，可实现个性化切割组合；3 材料计算、设计优化演示系统，主要需要一台磁控溅射真空镀膜设备，技术参数为：（1）主腔室：本底真空优于8×10-6 Pa，可实现与其他真空镀膜系统互联；（2）气路系统：包含氩气、氧气、氮气至少3 (略) 和1个氮 (略) ；（3）样品台：基片尺寸可达2英寸，最低可加热至900℃，基片可在Z方向移动和沿phi轴转动；（4）4套靶枪，其中至少包含1套强磁场靶枪；（5）配备高压反射电子衍射（RHEED）系统；（6）具有成熟的操控软件系统，可控制温度、位移、气体流量、镀膜程序等；（7）配备水冷系统。 | 213.00 | 2024年09月 | 无 |
注：1.本次意向公开的采购意向仅作为供应商了解初步采购安排的参考，采购项目具体情况以最终发布的采购公告和采购文件为准；
2.供 (略) 反馈参与意向和意见建议。
联系人：李女士
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