A# 真空应用设备

南京大学拟采购多腔薄膜沉积联合系统一套，由一套超高真空磁控溅射系统、一套电子束蒸发镀膜系统和一套进样系统组成。主要参数需求如下：一、超高真空磁控溅射：1. 样品尺寸：4英寸；2. 溅射腔室极限真空：10-8Pa量级；3. 溅射腔室正面设有铰链DN300手动快开门，双密封结构；4. 样品台加热温度：800℃，靶基距调节范围100mm，样品台旋转0-20rpm；5. 靶枪及电源：2个2英寸超高真空靶枪，1个直流电源和1个射频电源；6. 工艺气体：3路气体进气，氩气，氧气，氮气；配有工艺稳压模块；7. 膜厚均匀性优于±5%。二、电子束蒸发镀膜系统：1. 样品尺寸：4英寸；2. 电子束蒸发沉积系统极限真空：10-6Pa量级；3. 水冷样品台：4英寸样品，样品台旋转0-10rpm连续可调；偏摆角度可调0-50°（不破真空且样品台旋转连续旋转时）；生长距离调节范围50mm（生长距离550mm）；4. 电子束蒸发源：电子束蒸发源 6x4cc，电源功率5kW；5. 膜厚均匀性优于±5%。三、进样系统：1. 进样系统与超高真空磁控溅射系统及电子束蒸发镀膜系统对接；2. 进样系统极限真空：10-5Pa量级；3. 可以实现5个4英寸样品的储存及快速进样。仪器质保期需求：12个月。

A# 真空应用设备

南京大学拟采购多腔薄膜沉积联合系统一套，由一套超高真空磁控溅射系统、一套电子束蒸发镀膜系统和一套进样系统组成。主要参数需求如下：一、超高真空磁控溅射：1. 样品尺寸：4英寸；2. 溅射腔室极限真空：10-8Pa量级；3. 溅射腔室正面设有铰链DN300手动快开门，双密封结构；4. 样品台加热温度：800℃，靶基距调节范围100mm，样品台旋转0-20rpm；5. 靶枪及电源：2个2英寸超高真空靶枪，1个直流电源和1个射频电源；6. 工艺气体：3路气体进气，氩气，氧气，氮气；配有工艺稳压模块；7. 膜厚均匀性优于±5%。二、电子束蒸发镀膜系统：1. 样品尺寸：4英寸；2. 电子束蒸发沉积系统极限真空：10-6Pa量级；3. 水冷样品台：4英寸样品，样品台旋转0-10rpm连续可调；偏摆角度可调0-50°（不破真空且样品台旋转连续旋转时）；生长距离调节范围50mm（生长距离550mm）；4. 电子束蒸发源：电子束蒸发源 6x4cc，电源功率5kW；5. 膜厚均匀性优于±5%。三、进样系统：1. 进样系统与超高真空磁控溅射系统及电子束蒸发镀膜系统对接；2. 进样系统极限真空：10-5Pa量级；3. 可以实现5个4英寸样品的储存及快速进样。仪器质保期需求：12个月。