A(略)射线式分析仪器

材料表面多功能分析系统 功能目标：材料表面多功能分析系统主要对固体表面的成分进行表征，包括各种粉末材料、高分子材料、物理薄膜以及锂电池材料、新型光电材料、功能材料、陶瓷、玻璃、高分子聚合物、金属、半导体、石墨烯、电池材料以及各种薄膜等研究领域。 主体配置：包含分析室、进样 (略) 理室；各室配备独立的超高真空抽气系统；整套系统中应具备单色化XPS、微区XPS、成像XPS、UPS紫外光电子能谱分析、REELS反射电子能量损失谱分析、原位RAMAN拉曼光谱分析、离子刻蚀枪套件、自动化多轴样品台、超高真空测量装置功能等。 数量：1台 参数： 1.分析室真空泵：独立的（非与进样室共用）前级机械泵、涡轮分子泵和钛升华泵； 2.分析室极限真空度，优于5×10-9 mbar 3.能量扫描范围5eV~1500eV,最小能量步长3meV； 4.通过能为1~400eV，连续可调。 5.能量分辨率≤0.50 eV 6.在最大功率120W，束斑大小为400μm的实验条件下，当Ag3d5/2峰的半高宽≤1.0eV时，计数率≥6,000,000 cps； 7.最小聚焦获得束斑≤10 μm； 8.束斑面积从10μm至400μm聚焦连续可调 9.光源功率要求：最大功率≤120W 10. 样品台尺寸大于60 mm×60 mm，最大测试样品厚度≥20mm 11.分析室原位充放电样品台：可通过4个电触点给样品通电流或电压，4个接触电极可通入最大24V DC以及1A的电流。 12.分析室中内置带有束斑孔径、刀刃边、荧光物质、银和金的标准样品台，并可通过软件一键功能完成系统自动标定。此项条款需提供加盖制造商公章的软件截图作为证明材料。 13. 离子源：Ar+源，不可使用C60+、C24+离子源，避免做刻蚀实验时人为引入碳污染，干扰分析；即同时具备单离子刻蚀模式； 14. 能量分辨率和灵敏度：对Ag费米边，能量分辨率应不大于120 meV；能量分辨率小于120meV时，灵敏度（Ag4d）≥2,000,000 cps； ▲15. 绝缘样品UPS分析：系统配有满足绝缘样品UPS分析时荷电中和需要的静电模式离子中和源； 16.必须XPS分析室原位设计，可实验同 (略) 域的XPS数据及RAMAN数据对比；

A(略)射线式分析仪器

材料表面多功能分析系统 功能目标：材料表面多功能分析系统主要对固体表面的成分进行表征，包括各种粉末材料、高分子材料、物理薄膜以及锂电池材料、新型光电材料、功能材料、陶瓷、玻璃、高分子聚合物、金属、半导体、石墨烯、电池材料以及各种薄膜等研究领域。 主体配置：包含分析室、进样 (略) 理室；各室配备独立的超高真空抽气系统；整套系统中应具备单色化XPS、微区XPS、成像XPS、UPS紫外光电子能谱分析、REELS反射电子能量损失谱分析、原位RAMAN拉曼光谱分析、离子刻蚀枪套件、自动化多轴样品台、超高真空测量装置功能等。 数量：1台 参数： 1.分析室真空泵：独立的（非与进样室共用）前级机械泵、涡轮分子泵和钛升华泵； 2.分析室极限真空度，优于5×10-9 mbar 3.能量扫描范围5eV~1500eV,最小能量步长3meV； 4.通过能为1~400eV，连续可调。 5.能量分辨率≤0.50 eV 6.在最大功率120W，束斑大小为400μm的实验条件下，当Ag3d5/2峰的半高宽≤1.0eV时，计数率≥6,000,000 cps； 7.最小聚焦获得束斑≤10 μm； 8.束斑面积从10μm至400μm聚焦连续可调 9.光源功率要求：最大功率≤120W 10. 样品台尺寸大于60 mm×60 mm，最大测试样品厚度≥20mm 11.分析室原位充放电样品台：可通过4个电触点给样品通电流或电压，4个接触电极可通入最大24V DC以及1A的电流。 12.分析室中内置带有束斑孔径、刀刃边、荧光物质、银和金的标准样品台，并可通过软件一键功能完成系统自动标定。此项条款需提供加盖制造商公章的软件截图作为证明材料。 13. 离子源：Ar+源，不可使用C60+、C24+离子源，避免做刻蚀实验时人为引入碳污染，干扰分析；即同时具备单离子刻蚀模式； 14. 能量分辨率和灵敏度：对Ag费米边，能量分辨率应不大于120 meV；能量分辨率小于120meV时，灵敏度（Ag4d）≥2,000,000 cps； ▲15. 绝缘样品UPS分析：系统配有满足绝缘样品UPS分析时荷电中和需要的静电模式离子中和源； 16.必须XPS分析室原位设计，可实验同 (略) 域的XPS数据及RAMAN数据对比；