A# 电气物理设备

购标名称：固体微结构紫外光刻加工系统。 采购标的数量：一套（台）。 设备指标：（1）无掩膜激光直写光刻；（2）最大行程：X=100mm，Y=100mm；（3）最小分辨率300nm，支持600nm、900nm的光学分辨率的自动切换；（4）配置高精密的温度控制器，控制温度±0.5℃；（5）样品尺寸：最大 125mm*125mm，向下兼容；（6）曝光尺寸：最大100mm*100mm；（7）最大扫描速度：200mm/s；（8）光刻速度：大于等于1.7mm2/min；（9）最大灰度光刻阶数：4095阶；（10）支持灰度光刻ECM面型补偿功能（11）样品固定方式：真空吸附，不同尺寸的卡盘进行样品定位；（12）自动聚焦：650nm红外实时聚焦；（13）支持GDSII，DXF，BMP，STL，TIFF等多种数据格式；（14）定位精度分辨率：2nm，重复定位精度：20nmRMS；（15）设备需集成度高，占地面积小于0.8m*0.8m*0.8m；（16）运行稳定，可长时间光刻；（17）设备的架构开源度高，可有利于更多的客制化开发和使用。 上述系统均应能提供全面且免费的安装和培训，质保期不少于1年，完整的售后服务及原厂技术支援响应。质保期外及时响应用户维护需要。

(略)

A# 电气物理设备

购标名称：固体微结构紫外光刻加工系统。 采购标的数量：一套（台）。 设备指标：（1）无掩膜激光直写光刻；（2）最大行程：X=100mm，Y=100mm；（3）最小分辨率300nm，支持600nm、900nm的光学分辨率的自动切换；（4）配置高精密的温度控制器，控制温度±0.5℃；（5）样品尺寸：最大 125mm*125mm，向下兼容；（6）曝光尺寸：最大100mm*100mm；（7）最大扫描速度：200mm/s；（8）光刻速度：大于等于1.7mm2/min；（9）最大灰度光刻阶数：4095阶；（10）支持灰度光刻ECM面型补偿功能（11）样品固定方式：真空吸附，不同尺寸的卡盘进行样品定位；（12）自动聚焦：650nm红外实时聚焦；（13）支持GDSII，DXF，BMP，STL，TIFF等多种数据格式；（14）定位精度分辨率：2nm，重复定位精度：20nmRMS；（15）设备需集成度高，占地面积小于0.8m*0.8m*0.8m；（16）运行稳定，可长时间光刻；（17）设备的架构开源度高，可有利于更多的客制化开发和使用。 上述系统均应能提供全面且免费的安装和培训，质保期不少于1年，完整的售后服务及原厂技术支援响应。质保期外及时响应用户维护需要。

(略)