2024年10至12月政府意向-磁控溅射系统详细情况750.000000万元(人民币
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2024年10至12月政府意向-磁控溅射系统详细情况750.000000万元(人民币
| 磁控溅射系统 | |
| 项目所在采购意向： | 中国科学技术大学2024年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中国科学技术大学 |
| 采购项目名称： | 磁控溅射系统 |
| 预算金额： | 750.(略)万元(人民币) |
| 采购品目： | A(略)其他仪器仪表 |
| 采购需求概况 ： | 磁控溅射技术是一种物理气相沉积方法，广泛应用于薄膜材料的制备。 |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 磁控溅射系统 | |
| 项目所在采购意向： | 中国科学技术大学2024年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中国科学技术大学 |
| 采购项目名称： | 磁控溅射系统 |
| 预算金额： | 750.(略)万元(人民币) |
| 采购品目： | A(略)其他仪器仪表 |
| 采购需求概况 ： | 磁控溅射技术是一种物理气相沉积方法，广泛应用于薄膜材料的制备。 |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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