磁控溅射系统意向公开-真空应用设备
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磁控溅射系统意向公开-真空应用设备
| 采购单位: | 北京大学 (略) |
| 项目名称: | 磁控溅射系统 |
| 预算金额（元）: | 1,(略) |
| 采购品目: | 真空应用设备 |
| 采购需求概况: | 拟采购磁控溅射系统1台，包含真空腔体和真空测量系统，样品台与加热系统，靶材和电源系统，主要用于金属、无机物等薄膜材料的高质量沉积制备。 |
| 联系人: | 潘老师 |
| 联系电话: | 0755-(略) |
| 预计采购时间: | 2024-11 |
| 备注: | 无 |
| 采购单位: | 北京大学 (略) |
| 项目名称: | 磁控溅射系统 |
| 预算金额（元）: | 1,(略) |
| 采购品目: | 真空应用设备 |
| 采购需求概况: | 拟采购磁控溅射系统1台，包含真空腔体和真空测量系统，样品台与加热系统，靶材和电源系统，主要用于金属、无机物等薄膜材料的高质量沉积制备。 |
| 联系人: | 潘老师 |
| 联系电话: | 0755-(略) |
| 预计采购时间: | 2024-11 |
| 备注: | 无 |
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