2024年11月至2024年12月政府采购意向
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2024年11月至2024年12月政府采购意向
广东中科半导体微纳制造技术研究院2024年11月至2024年12月政府采购意向
发布机构： 发布时间：2024-11-05 08:49:00
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将本单位2024年11月至2024年12月采购意向公开如下：
| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 落实政府采购政策情况 | 预算金额(元) | 预计采购时间 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 采购镀膜设备---低压化学气相沉积设备项目 | 标的名称：采购镀膜设备---低压化学气相沉积设备项目 标的数量：1 主要功能或目标：主要功能： 本设备主要用于半导 (略) 及分立器件的氧化LPCVD等工艺。 通过卧式氧化炉与LPCVD工艺的结合使用，可以形成一个完整的半导体制造工艺链。并进一步提升工艺的兼容性，使得整个制造过程更加高效和可靠。 目的： 该设备生成的氧化层可以作为这些材料的沉积基底，可以制造出具有优异性能的半导体器件，满足各种高科技产品的需求。 需满足的要求：基本硬件配置： 主机柜（含基本工艺腔室),净化工作台,气路气源柜系统,真空及压力控制系统、计算机控制系统、自动化模块、加热炉体及其配套硬件。 适用晶圆要求：6英寸 工艺性能基本要求： ①极限真空度≤8×10-1Pa；工作真空度应在15～100Pa且范围内可调；压力测量范围在1Pa～105Pa之间。 ②适配以下四类工艺条件：热氧化、多晶硅、#、Si3N4。 ③膜厚均匀性： 热氧化 | 落实国家关项目于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、 (略) 农副产品等政策情况 | 3,# | 2024年12月 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
广东中科半导体微纳制 (略)
2024年11月05日
广东中科半导体微纳制造技术研究院2024年11月至2024年12月政府采购意向
发布机构： 发布时间：2024-11-05 08:49:00
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将本单位2024年11月至2024年12月采购意向公开如下：
| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 落实政府采购政策情况 | 预算金额(元) | 预计采购时间 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 采购镀膜设备---低压化学气相沉积设备项目 | 标的名称：采购镀膜设备---低压化学气相沉积设备项目 标的数量：1 主要功能或目标：主要功能： 本设备主要用于半导 (略) 及分立器件的氧化LPCVD等工艺。 通过卧式氧化炉与LPCVD工艺的结合使用，可以形成一个完整的半导体制造工艺链。并进一步提升工艺的兼容性，使得整个制造过程更加高效和可靠。 目的： 该设备生成的氧化层可以作为这些材料的沉积基底，可以制造出具有优异性能的半导体器件，满足各种高科技产品的需求。 需满足的要求：基本硬件配置： 主机柜（含基本工艺腔室),净化工作台,气路气源柜系统,真空及压力控制系统、计算机控制系统、自动化模块、加热炉体及其配套硬件。 适用晶圆要求：6英寸 工艺性能基本要求： ①极限真空度≤8×10-1Pa；工作真空度应在15～100Pa且范围内可调；压力测量范围在1Pa～105Pa之间。 ②适配以下四类工艺条件：热氧化、多晶硅、#、Si3N4。 ③膜厚均匀性： 热氧化 | 落实国家关项目于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、 (略) 农副产品等政策情况 | 3,# | 2024年12月 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
广东中科半导体微纳制 (略)
2024年11月05日
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