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2024年12月政府采购意向-低损伤磁控溅射设备详细情况万元人民币
| 低损伤磁控溅射设备 | |
| 项目所在采购意向： | 厦门大学2024年12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 厦门大学 |
| 采购项目名称： | 低损伤磁控溅射设备 |
| 预算金额： | 680.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A-货物*设备*机械设备*真空获得及应用设备*真空应用设备 |
| 采购需求概况 ： | 极限真空：5.0×10-5 Pa (经烘烤除气后)。抽气速度：从大气到5×10-4 Pa (≤45min)。基片尺寸和装载量：同时可容纳6片300*400 mm。总体设备漏率：关机停泵12小时后，真空度优于10 Pa。可用靶材：ITO、Cu、NiO等。靶基距：80-120 mm。镀膜厚度均匀性：片内均匀性：≤±3%；片间均匀性：≤±3%。 |
| 预计采购时间： | 2024-12 |
| 备注： | 原采购意向公开链接：http://**-1a1b-4572-9b8d-9b68c20f9c8a |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 低损伤磁控溅射设备 | |
| 项目所在采购意向： | 厦门大学2024年12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 厦门大学 |
| 采购项目名称： | 低损伤磁控溅射设备 |
| 预算金额： | 680.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A-货物*设备*机械设备*真空获得及应用设备*真空应用设备 |
| 采购需求概况 ： | 极限真空：5.0×10-5 Pa (经烘烤除气后)。抽气速度：从大气到5×10-4 Pa (≤45min)。基片尺寸和装载量：同时可容纳6片300*400 mm。总体设备漏率：关机停泵12小时后，真空度优于10 Pa。可用靶材：ITO、Cu、NiO等。靶基距：80-120 mm。镀膜厚度均匀性：片内均匀性：≤±3%；片间均匀性：≤±3%。 |
| 预计采购时间： | 2024-12 |
| 备注： | 原采购意向公开链接：http://**-1a1b-4572-9b8d-9b68c20f9c8a |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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