蝶形腔式MPCVD意向公开-其他真空获得及应用设备
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蝶形腔式MPCVD意向公开-其他真空获得及应用设备
| 采购单位: | 深圳技术大学 |
| 项目名称: | 蝶形腔式MPCVD |
| 预算金额（元）: | 1,(略) |
| 采购品目: | 其他真空获得及应用设备 |
| 采购需求概况: | 1 微波等离子体化学气相沉积系统主机 主要用于半导体级、光学级、热沉级单晶金刚石及多晶金刚石的生长 ★有效沉积面积不小于3英寸 在Si衬底上生长的多晶金刚石拉曼特征峰半高宽≤6cm-1 ▲多晶金刚石热导率≥1800 W/m·k（需提供证明） 多晶金刚石生长速率≥2 μm/h ▲厚度均匀性≤10%，颜色均匀性好。 测量方法：多点测量厚度，厚度均匀性=（tmax-tmin）/（2*tmean），tmax、tmin、tmean分别是最大厚度、最小厚度、平均厚度。 薄膜沉积厚度≥1000 μm 4 真空系统 工作气压范围：10~300 Torr ★极限真空：＜1 Pa 气压控制：自动稳压，稳压范围包含40～250 Torr 真空泵：旋片式机械泵，抽气速率≥4.4 L/s 真空密封：腔体采用双层氟胶圈密封，其余除必要机构外均采用金属密封 真空测量：配备两个进口薄膜规，量程分别包含：1~1000 Torr和1~1000 mTorr ▲机械泵配备油雾分离器 ▲配备真空微尘分离器 5 微波系统 ★微波频率：2450±25 MHz 微波反射保护：环形器，水负载 微波调谐：阻抗调配器，模式转换天线 ★微波泄漏功率密度：≤ 2 mw/cm2 输出功率≥10kW，1kW以上连续可调 6 自动控制系统 配置PLC控制的不小于15”触摸显示屏，用户操作界面友好，所有操作均可在触摸屏上完成 系统自带全自动抽气、起辉、升温、降温等预设流程，用户操作简便 系统支持全自动温度控制、气压控制 ▲系统可设置不少于100套工艺配方，每套配方不少于40行数据。工艺数据可通过备份盘备份导出 7 气路系统 (略) 材质：EP级316钢管 系 (略) 高精度数字式MFC，可 (略) (略) MFC最大流速： H2: 1000sccm， CH4：100sccm， O2：10sccm， N2：10sccm， Ar：20sccm. 8 冷却系统 ▲ (略) (略) ：微波发生器、微波电源、反应腔、样品基台 ▲5 (略) 流速、温度实时监测并记录 9 反应腔系统 ★反应腔材料及结构：双层水冷夹层设计碟形316不锈钢反应腔 ▲腔体保压能力：每12小时压升≤0.2 Torr 系统漏率：<1.0x10-9 Pa？m3 /s (通过氦质谱检漏仪检测) 观察窗口：不少于四个CF40窗口，水平分布，用于观察腔体内部生长情况 测温窗口：腔盖顶部配备四个窗口用于斜向测温 ▲腔体开启方式：全自动控制开关反应腔 10 基片台系统 ▲基片台支持升降功能 基片台材质：金属钼、金属铜 钼台尺寸：≥3英寸 ▲钼台设计：分体式 11 测温系统 采用红外测温系统，测温范围包含：250~1400摄氏度 ▲测温窗口：腔盖顶部配备测温窗口，斜向测温 温度均匀性：温差极差±30℃内 |
| 联系人: | 张宗雁 |
| 联系电话: | (略) |
| 预计采购时间: | 2024-12 |
| 备注: | 无 |
| 采购单位: | 深圳技术大学 |
| 项目名称: | 蝶形腔式MPCVD |
| 预算金额（元）: | 1,(略) |
| 采购品目: | 其他真空获得及应用设备 |
| 采购需求概况: | 1 微波等离子体化学气相沉积系统主机 主要用于半导体级、光学级、热沉级单晶金刚石及多晶金刚石的生长 ★有效沉积面积不小于3英寸 在Si衬底上生长的多晶金刚石拉曼特征峰半高宽≤6cm-1 ▲多晶金刚石热导率≥1800 W/m·k（需提供证明） 多晶金刚石生长速率≥2 μm/h ▲厚度均匀性≤10%，颜色均匀性好。 测量方法：多点测量厚度，厚度均匀性=（tmax-tmin）/（2*tmean），tmax、tmin、tmean分别是最大厚度、最小厚度、平均厚度。 薄膜沉积厚度≥1000 μm 4 真空系统 工作气压范围：10~300 Torr ★极限真空：＜1 Pa 气压控制：自动稳压，稳压范围包含40～250 Torr 真空泵：旋片式机械泵，抽气速率≥4.4 L/s 真空密封：腔体采用双层氟胶圈密封，其余除必要机构外均采用金属密封 真空测量：配备两个进口薄膜规，量程分别包含：1~1000 Torr和1~1000 mTorr ▲机械泵配备油雾分离器 ▲配备真空微尘分离器 5 微波系统 ★微波频率：2450±25 MHz 微波反射保护：环形器，水负载 微波调谐：阻抗调配器，模式转换天线 ★微波泄漏功率密度：≤ 2 mw/cm2 输出功率≥10kW，1kW以上连续可调 6 自动控制系统 配置PLC控制的不小于15”触摸显示屏，用户操作界面友好，所有操作均可在触摸屏上完成 系统自带全自动抽气、起辉、升温、降温等预设流程，用户操作简便 系统支持全自动温度控制、气压控制 ▲系统可设置不少于100套工艺配方，每套配方不少于40行数据。工艺数据可通过备份盘备份导出 7 气路系统 (略) 材质：EP级316钢管 系 (略) 高精度数字式MFC，可 (略) (略) MFC最大流速： H2: 1000sccm， CH4：100sccm， O2：10sccm， N2：10sccm， Ar：20sccm. 8 冷却系统 ▲ (略) (略) ：微波发生器、微波电源、反应腔、样品基台 ▲5 (略) 流速、温度实时监测并记录 9 反应腔系统 ★反应腔材料及结构：双层水冷夹层设计碟形316不锈钢反应腔 ▲腔体保压能力：每12小时压升≤0.2 Torr 系统漏率：<1.0x10-9 Pa？m3 /s (通过氦质谱检漏仪检测) 观察窗口：不少于四个CF40窗口，水平分布，用于观察腔体内部生长情况 测温窗口：腔盖顶部配备四个窗口用于斜向测温 ▲腔体开启方式：全自动控制开关反应腔 10 基片台系统 ▲基片台支持升降功能 基片台材质：金属钼、金属铜 钼台尺寸：≥3英寸 ▲钼台设计：分体式 11 测温系统 采用红外测温系统，测温范围包含：250~1400摄氏度 ▲测温窗口：腔盖顶部配备测温窗口，斜向测温 温度均匀性：温差极差±30℃内 |
| 联系人: | 张宗雁 |
| 联系电话: | (略) |
| 预计采购时间: | 2024-12 |
| 备注: | 无 |
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