2025年1月政府采购意向-双光子灰度光刻系统详细情况万元人民币
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2025年1月政府采购意向-双光子灰度光刻系统详细情况万元人民币
| 双光子灰度光刻系统 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 高能物理研究所2025年1月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 高能物理研究所 |
| 采购项目名称： | 双光子灰度光刻系统 |
| 预算金额： | 700.(略)万元(人民币) |
| 采购品目： | A(略) |
| 采购需求概况 ： | 双光子灰度光刻系统，1套，主要通过双光子聚合技术和纳米级对准系统实现在硅片、光芯片等元件上直接打印复杂的三维微纳结构，要求打印元件表面粗糙度小于5纳米，最细尺寸小于100纳米，面型精度小于200纳米，可加工样品的最大高度不低于20毫米等。主要用于加工同步辐射光源上需要的三维相位版、三维聚焦透镜等元件，货期要求六个月。 |
| 预计采购时间： | 2025-01 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 双光子灰度光刻系统 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 高能物理研究所2025年1月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 高能物理研究所 |
| 采购项目名称： | 双光子灰度光刻系统 |
| 预算金额： | 700.(略)万元(人民币) |
| 采购品目： | A(略) |
| 采购需求概况 ： | 双光子灰度光刻系统，1套，主要通过双光子聚合技术和纳米级对准系统实现在硅片、光芯片等元件上直接打印复杂的三维微纳结构，要求打印元件表面粗糙度小于5纳米，最细尺寸小于100纳米，面型精度小于200纳米，可加工样品的最大高度不低于20毫米等。主要用于加工同步辐射光源上需要的三维相位版、三维聚焦透镜等元件，货期要求六个月。 |
| 预计采购时间： | 2025-01 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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