A*金属材料试验机

设备名称：CNT制备设备 数量：1套 用途：设备包含CVD系统和催化剂蒸镀系统，可以实现4inch单壁和多壁碳纳米管均匀生长，实现标准化生长工艺。 技术要求（仅列主要，详见采购文件）： 主机参数： 1，CVD系统 （1）石英管：外径110mm X 内径100mm X 长度900mm （2）★放置基底最大尺寸：100mm （3）▲温度范围：400-1100℃ （4）PID控温，控温精度≤0.1℃ （5）3路气体流量控制，需求气体种类：Ar，H2，CH4或C2H2，控制精度0.1 SCCM （6）真空度：≤0.1Torr，抽速：20L/min （7）★工艺要求：满足100mm基底整片生长碳纳米管，生长单壁和多壁碳纳米管，提供对应的生长工艺，在用户现场实现生长工艺。 2，催化剂蒸镀系统 （1）催化剂制备真空腔室：210mmφ150mm （2）基底支架：360°旋转，4面，可满足100mm×100mm样品 （3）蒸发源：2组电极、2组蒸发源，配备蒸发源靶材 （4）真空系统：涡轮分子泵67L/sec （5）真空度：≤1 x 10-4Pa （6）▲镀膜精度：≤0.1nm/sec （7）膜厚监测系统：最小可监测厚度0.01nm，最大可监测厚度100nm （8）▲工艺要求：提供可用于生长单壁和多壁碳纳米管配套的催化剂的制备工艺，在用户现场实现制备工艺。 交付时间要求：2025年7月15日 交付地点要求： (略) (略) 中山大学南校园557栋 免费保修时间： 2年 保修范围： 整机 售后服务要求： 24小时响应，72小时提供解决方案 培训要求： 2次现场培训。培训内容包括仪器的技术原理、操作、调试， (略) 理、基本仪器维护，故障排除等。具体事宜由成交供应商按采购人指定地点及时间安排要求执行。

A*金属材料试验机

设备名称：CNT制备设备 数量：1套 用途：设备包含CVD系统和催化剂蒸镀系统，可以实现4inch单壁和多壁碳纳米管均匀生长，实现标准化生长工艺。 技术要求（仅列主要，详见采购文件）： 主机参数： 1，CVD系统 （1）石英管：外径110mm X 内径100mm X 长度900mm （2）★放置基底最大尺寸：100mm （3）▲温度范围：400-1100℃ （4）PID控温，控温精度≤0.1℃ （5）3路气体流量控制，需求气体种类：Ar，H2，CH4或C2H2，控制精度0.1 SCCM （6）真空度：≤0.1Torr，抽速：20L/min （7）★工艺要求：满足100mm基底整片生长碳纳米管，生长单壁和多壁碳纳米管，提供对应的生长工艺，在用户现场实现生长工艺。 2，催化剂蒸镀系统 （1）催化剂制备真空腔室：210mmφ150mm （2）基底支架：360°旋转，4面，可满足100mm×100mm样品 （3）蒸发源：2组电极、2组蒸发源，配备蒸发源靶材 （4）真空系统：涡轮分子泵67L/sec （5）真空度：≤1 x 10-4Pa （6）▲镀膜精度：≤0.1nm/sec （7）膜厚监测系统：最小可监测厚度0.01nm，最大可监测厚度100nm （8）▲工艺要求：提供可用于生长单壁和多壁碳纳米管配套的催化剂的制备工艺，在用户现场实现制备工艺。 交付时间要求：2025年7月15日 交付地点要求： (略) (略) 中山大学南校园557栋 免费保修时间： 2年 保修范围： 整机 售后服务要求： 24小时响应，72小时提供解决方案 培训要求： 2次现场培训。培训内容包括仪器的技术原理、操作、调试， (略) 理、基本仪器维护，故障排除等。具体事宜由成交供应商按采购人指定地点及时间安排要求执行。