A*电子工业生产设备

无掩膜光刻机，数量：1台。该设备用于光刻技术是现代半导体、微电子、信息产业的基础，无掩膜光刻机通过计算机编程控制，便捷的将图形掩膜数字化，通过编程灵活性的改变掩膜形状，替代了传统光刻使用的“物理掩膜版”，从而避免了传统光刻系统掩膜版制造复杂昂贵、灵活性差等问题。无掩膜光刻机是制作掩膜板、进行大面积曝光等关键工艺步骤的核心设备。选择0.5微米精细度以满足150nm光刻机的掩膜板制作需求。选择8英寸以满足整个工艺线的工艺指标。；技术要求：支持8inch Wafer并向下兼容，分辨率500nm,焦深±300nm，线宽均匀性±8%，位置精度±150nm，支持双面对准；交付时间要求：6个月；交付地点要求： (略) 中山大 (略) 纳米楼；售后服务要求：若设备出现故障，卖方在接到买方通知后，2小时内做出故障维修实质性响应，若通过电话、邮件等仍不能解决问题的，卖方售后服务人员（或维修工程师）在48小时内到达买方现场提供设备维修服务。质保期内提供设备例行保养、设备维护及培训等服务。

A*电子工业生产设备

无掩膜光刻机，数量：1台。该设备用于光刻技术是现代半导体、微电子、信息产业的基础，无掩膜光刻机通过计算机编程控制，便捷的将图形掩膜数字化，通过编程灵活性的改变掩膜形状，替代了传统光刻使用的“物理掩膜版”，从而避免了传统光刻系统掩膜版制造复杂昂贵、灵活性差等问题。无掩膜光刻机是制作掩膜板、进行大面积曝光等关键工艺步骤的核心设备。选择0.5微米精细度以满足150nm光刻机的掩膜板制作需求。选择8英寸以满足整个工艺线的工艺指标。；技术要求：支持8inch Wafer并向下兼容，分辨率500nm,焦深±300nm，线宽均匀性±8%，位置精度±150nm，支持双面对准；交付时间要求：6个月；交付地点要求： (略) 中山大 (略) 纳米楼；售后服务要求：若设备出现故障，卖方在接到买方通知后，2小时内做出故障维修实质性响应，若通过电话、邮件等仍不能解决问题的，卖方售后服务人员（或维修工程师）在48小时内到达买方现场提供设备维修服务。质保期内提供设备例行保养、设备维护及培训等服务。