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2024年12月高真空磁控溅射系统政府采购意向-大尺寸高真空磁控溅射系统
浙大 (略) 2024年12月高真空磁控溅射系统政府采购意向
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将浙大 (略) 2024年12月高真空磁控溅射系统采购意向公开如下：
| 采购单位 | 浙大 (略) |
| 采购项目名称 | 大尺寸高真空磁控溅射系统 |
| 预算金额（元） | *.00 |
| 是否面向中小企业 | 面向中小企业 |
| 落实政府采购政策功能情况 | 落实政府采购相关政策 |
| 预计采购时间 | 2025年02月 |
| 采购需求概况 | 标的名称：大尺寸高真空磁控溅射系统 采购目录：A*电子工业生产设备 需实现的主要功能或者目标：空载腔体极限真空度：≤8x10-5 Pa，漏率≤5x10-10 Pa?m3/s；平面阴极：W80*L510mm，3套，分别用于2套金属氧化物和一套金属靶材，靶头水冷系统；射频电源 2KW，2套，直流电源 5KW；膜厚均匀性：210 mm半片内，≤5%@100nm，8%@30nm；工艺温度：RT-350oC；靶基距离：60-100mm可调;基片架：可放置210mm半片2片及其它规格小尺寸片子。 需满足的质量、服务、安全、时限等要求：（一）保证提供的产品为全新，质量检测合格，质保期1年 ；（二）免费提供安装调试、人员培训、软件升级等服务，售后服务响应及时；（三）保证正常使用时的安全；（四）时限要求： 供货期3个月左右。 |
| 联系人 | 冯老师 |
| 联系电话 | * |
| 备注 | / |
浙大 (略)
2024年12月15日
浙大 (略) 2024年12月高真空磁控溅射系统政府采购意向
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将浙大 (略) 2024年12月高真空磁控溅射系统采购意向公开如下：
| 采购单位 | 浙大 (略) |
| 采购项目名称 | 大尺寸高真空磁控溅射系统 |
| 预算金额（元） | *.00 |
| 是否面向中小企业 | 面向中小企业 |
| 落实政府采购政策功能情况 | 落实政府采购相关政策 |
| 预计采购时间 | 2025年02月 |
| 采购需求概况 | 标的名称：大尺寸高真空磁控溅射系统 采购目录：A*电子工业生产设备 需实现的主要功能或者目标：空载腔体极限真空度：≤8x10-5 Pa，漏率≤5x10-10 Pa?m3/s；平面阴极：W80*L510mm，3套，分别用于2套金属氧化物和一套金属靶材，靶头水冷系统；射频电源 2KW，2套，直流电源 5KW；膜厚均匀性：210 mm半片内，≤5%@100nm，8%@30nm；工艺温度：RT-350oC；靶基距离：60-100mm可调;基片架：可放置210mm半片2片及其它规格小尺寸片子。 需满足的质量、服务、安全、时限等要求：（一）保证提供的产品为全新，质量检测合格，质保期1年 ；（二）免费提供安装调试、人员培训、软件升级等服务，售后服务响应及时；（三）保证正常使用时的安全；（四）时限要求： 供货期3个月左右。 |
| 联系人 | 冯老师 |
| 联系电话 | * |
| 备注 | / |
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