原子层沉积设备意向公开-真空应用设备
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原子层沉积设备意向公开-真空应用设备
| 采购单位: | 深圳大学 |
| 项目名称: | 原子层沉积设备 |
| 预算金额（元）: | 2,* |
| 采购品目: | 真空应用设备 |
| 采购需求概况: | 原子层沉积设备是一种先进的薄膜沉积仪器，其核心功能在于实现沉积参数（包括厚度、成份和结构）的高度可控。通过交替引入前驱体并化学吸附反应，设备能在原子级别上逐层构建薄膜，确保所制备的薄膜具有很高的纯度和均匀性。该设备广泛应用于半导体、纳米技术和光学等领域，如半导体器件的制造、纳米结构材料的制备以及光学薄膜的沉积等。其优势在于沉积过程自限制、互补性强，能确保薄膜的均匀性和一致性，同时支持多种材料的沉积，满足不同应用领域的需求。 |
| 预计采购时间: | 2025-1 |
| 联系人: | 缪老师 |
| 联系电话: | * |
| 备注: | 无 |
| 采购单位: | 深圳大学 |
| 项目名称: | 原子层沉积设备 |
| 预算金额（元）: | 2,* |
| 采购品目: | 真空应用设备 |
| 采购需求概况: | 原子层沉积设备是一种先进的薄膜沉积仪器，其核心功能在于实现沉积参数（包括厚度、成份和结构）的高度可控。通过交替引入前驱体并化学吸附反应，设备能在原子级别上逐层构建薄膜，确保所制备的薄膜具有很高的纯度和均匀性。该设备广泛应用于半导体、纳米技术和光学等领域，如半导体器件的制造、纳米结构材料的制备以及光学薄膜的沉积等。其优势在于沉积过程自限制、互补性强，能确保薄膜的均匀性和一致性，同时支持多种材料的沉积，满足不同应用领域的需求。 |
| 预计采购时间: | 2025-1 |
| 联系人: | 缪老师 |
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| 备注: | 无 |
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