A#真空应用设备

拟采购离子束刻蚀机设备1套，该设备主要功能是进行微纳米电子器件结构的刻蚀加工，还可用于电子功能薄膜的离子束清洗、材料表面终极抛光和材料减薄等，是制造微电子器件 (略) 的关键工艺设备，具备能量范围广、刻蚀精度高、均匀性高等技术优势，设备指标参数先进。设备配备了制冷系统和反应离子束刻蚀功能，用于开展电子科学与技术、电磁场与电磁波等本科专业的相关实践教学。主要指标包括：1、能量范围：0~1000eV；2、离子束流可调范围：0～130MA，离子能量和束流可实现自动匹配；3、刻蚀不均匀性：小于2%，离子束能量稳定度≤±2%/h；4、极限真空：8′10^5Pa；5、样品台旋转：0~20prm；6、刻蚀尺寸：4英寸。实验规模：预计每年面向300余名本科学生，开放3000机时。质保期三年；供货周期：90日；付款方式：合同签订后#方收到#方提供的符合#方财务要求的全额发票后以银行转账的方式支付至#方账户合同总价款的 70 %，剩余 30 %在#方验收合格后向#方支付剩余尾款。

A#真空应用设备

拟采购离子束刻蚀机设备1套，该设备主要功能是进行微纳米电子器件结构的刻蚀加工，还可用于电子功能薄膜的离子束清洗、材料表面终极抛光和材料减薄等，是制造微电子器件 (略) 的关键工艺设备，具备能量范围广、刻蚀精度高、均匀性高等技术优势，设备指标参数先进。设备配备了制冷系统和反应离子束刻蚀功能，用于开展电子科学与技术、电磁场与电磁波等本科专业的相关实践教学。主要指标包括：1、能量范围：0~1000eV；2、离子束流可调范围：0～130MA，离子能量和束流可实现自动匹配；3、刻蚀不均匀性：小于2%，离子束能量稳定度≤±2%/h；4、极限真空：8′10^5Pa；5、样品台旋转：0~20prm；6、刻蚀尺寸：4英寸。实验规模：预计每年面向300余名本科学生，开放3000机时。质保期三年；供货周期：90日；付款方式：合同签订后#方收到#方提供的符合#方财务要求的全额发票后以银行转账的方式支付至#方账户合同总价款的 70 %，剩余 30 %在#方验收合格后向#方支付剩余尾款。