2025年4至7月政府采购意向-深硅刻蚀机详细情况万元人民币
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2025年4至7月政府采购意向-深硅刻蚀机详细情况万元人民币
| 深硅刻蚀机 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 高能物理研究所2025年4至7月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 高能物理研究所 |
| 采购项目名称： | 深硅刻蚀机 |
| 预算金额： | 300.#万元(人民币) |
| 采购品目： | A#-其他电工、电子生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 深硅刻蚀设备是超导器件制备的关键设备，与传 (略) 刻蚀设备对线宽要求不同，其要求更高的刻蚀速率、更好的刻蚀均匀性以及直、斜孔刻蚀形貌的控制能力。深硅感应耦合等离子刻蚀机在刻蚀过程中实现高效耦合及稳定起辉的性能，能实现高均匀性、高精度、良好的重复性，充分保障研发工作有序开展。 |
| 预计采购时间： | 2025-05 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 深硅刻蚀机 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 高能物理研究所2025年4至7月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 高能物理研究所 |
| 采购项目名称： | 深硅刻蚀机 |
| 预算金额： | 300.#万元(人民币) |
| 采购品目： | A#-其他电工、电子生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 深硅刻蚀设备是超导器件制备的关键设备，与传 (略) 刻蚀设备对线宽要求不同，其要求更高的刻蚀速率、更好的刻蚀均匀性以及直、斜孔刻蚀形貌的控制能力。深硅感应耦合等离子刻蚀机在刻蚀过程中实现高效耦合及稳定起辉的性能，能实现高均匀性、高精度、良好的重复性，充分保障研发工作有序开展。 |
| 预计采购时间： | 2025-05 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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