氧化物电介质磁控溅射仪招标预告
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氧化物电介质磁控溅射仪招标预告
| 氧化物电介质磁控溅射仪 | |
| 项目所在采购意向： | 华中科技大学2025年4月政府采购意向 |
| 采购单位： | 华中科技大学 |
| 采购项目名称： | 氧化物电介质磁控溅射仪 |
| 预算金额： | 203.#万元(人民币) |
| 采购品目： | A#工艺试验机 |
| 采购需求概况 ： | 拟采购氧化物电介质磁控溅射仪1台，该设备是镀膜的主要技术之一，通过控制真空室内的气压与溅射功率，就可以获得稳定的沉积速率，通过精确控制镀膜时间，容易获得均匀的高精度的膜厚。主要用于Al2O3、Ta2O5、HfO2等电介质薄膜材料生长。 1.基片尺寸：8 英寸（兼容小尺寸基片） 2、磁控溅射靶：8英寸,3套； 3、配置1套直流电源，2套射频电源。 服务要求：设备安装调试后，提供不少于3个工作日的技术培训服务；所有硬件一年免费保修、电话报修后4小时内响应； 提供设备终身维护维修服务。 |
| 预计采购时间： | 2025-04 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 氧化物电介质磁控溅射仪 | |
| 项目所在采购意向： | 华中科技大学2025年4月政府采购意向 |
| 采购单位： | 华中科技大学 |
| 采购项目名称： | 氧化物电介质磁控溅射仪 |
| 预算金额： | 203.#万元(人民币) |
| 采购品目： | A#工艺试验机 |
| 采购需求概况 ： | 拟采购氧化物电介质磁控溅射仪1台，该设备是镀膜的主要技术之一，通过控制真空室内的气压与溅射功率，就可以获得稳定的沉积速率，通过精确控制镀膜时间，容易获得均匀的高精度的膜厚。主要用于Al2O3、Ta2O5、HfO2等电介质薄膜材料生长。 1.基片尺寸：8 英寸（兼容小尺寸基片） 2、磁控溅射靶：8英寸,3套； 3、配置1套直流电源，2套射频电源。 服务要求：设备安装调试后，提供不少于3个工作日的技术培训服务；所有硬件一年免费保修、电话报修后4小时内响应； 提供设备终身维护维修服务。 |
| 预计采购时间： | 2025-04 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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