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紫外掩膜光刻机意向公开-紫外掩膜光刻机详细情况万元人民币
| 紫外掩膜光刻机 | |
| 项目所在采购意向： | 深 (略) 紫外掩膜光刻机意向公开 |
| 采购单位： | 深 (略) |
| 采购项目名称： | 紫外掩膜光刻机 |
| 预算金额： | 365.(略)万元(人民币) |
| 采购品目： | 其他光学仪器 |
| 采购需求概况 ： | 名称：紫外掩膜光刻机<br>主要功能：手动与半自动掩膜对齐器系统；支持多材料和尺寸，微米分辨率光刻技术。<br>采购数量：1台<br>质量要求：<br>1.基板尺寸最大可达 150 毫米。<br>2.具备顶面和底面校准功能，以及红外校准功能。<br>3.掩模与晶圆对准以及晶圆与晶圆对准。<br>4.接触式曝光和接近式曝光。<br>5.可减少衍射的光学元件。<br>服务要求：<br>1.安装与培训调试：<br>供应商需提供专业的安装调试服务，提供全面的操作培训和维护培训，<br>确保设备正常运行。<br>2.售后服务：<br>提供至少3年免费保修服务。<br>保修期内免费提供维修和更换服务。<br>提供24小时技术支持热线，快速响应故障报修。<br>安全要求：设备需符合相关国标电器安全标准（如CE认证）。<br>时限要求：合同签订后6个月内完成交货。 |
| 预计采购时间： | 2025-04 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 紫外掩膜光刻机 | |
| 项目所在采购意向： | 深 (略) 紫外掩膜光刻机意向公开 |
| 采购单位： | 深 (略) |
| 采购项目名称： | 紫外掩膜光刻机 |
| 预算金额： | 365.(略)万元(人民币) |
| 采购品目： | 其他光学仪器 |
| 采购需求概况 ： | 名称：紫外掩膜光刻机<br>主要功能：手动与半自动掩膜对齐器系统；支持多材料和尺寸，微米分辨率光刻技术。<br>采购数量：1台<br>质量要求：<br>1.基板尺寸最大可达 150 毫米。<br>2.具备顶面和底面校准功能，以及红外校准功能。<br>3.掩模与晶圆对准以及晶圆与晶圆对准。<br>4.接触式曝光和接近式曝光。<br>5.可减少衍射的光学元件。<br>服务要求：<br>1.安装与培训调试：<br>供应商需提供专业的安装调试服务，提供全面的操作培训和维护培训，<br>确保设备正常运行。<br>2.售后服务：<br>提供至少3年免费保修服务。<br>保修期内免费提供维修和更换服务。<br>提供24小时技术支持热线，快速响应故障报修。<br>安全要求：设备需符合相关国标电器安全标准（如CE认证）。<br>时限要求：合同签订后6个月内完成交货。 |
| 预计采购时间： | 2025-04 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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