气相沉积炉招标预告
气相沉积炉招标预告
气相沉积炉 | |
(略) 在采购意向: | (略) * 月政府采购意向 |
采购单位: | (略) |
采购项目名称: | 气相沉积炉 |
预算金额: | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
采购品目: |
A 点击查看>> 真空应用设备,A * (略) 理设备 |
采购需求概况: |
化学气相沉积系统,1套主要应用于石墨烯的生长,配备等离子系统支持在较低温度下实现高质量单层沉积;单层覆盖率可达 * %,均匀性:<±5%;衬底尺寸: 6" 及以下基底或托架(支持小晶圆,小片样品);等离子增强沉积温度低,有可能实现在铜、镍之外基底上生长石墨烯;工艺速度快,仪器使用效率高;腔壁上的反应和产物沉积少或清洗方便快捷;自带闭路循环冷凝水系统,减少对安装设施条件依赖;随仪器提供多组成熟优化工艺,全自动操作,运行中可实时修改工艺;安全内锁与气体泄漏实时监控,有效防范仪器故障和安全事故; |
预计采购时间: | 点击查看>> |
备注: |
用户单位为石墨烯工程 (略) 。 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排, (略) 和采购文件为准。
气相沉积炉 | |
(略) 在采购意向: | (略) * 月政府采购意向 |
采购单位: | (略) |
采购项目名称: | 气相沉积炉 |
预算金额: | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
采购品目: |
A 点击查看>> 真空应用设备,A * (略) 理设备 |
采购需求概况: |
化学气相沉积系统,1套主要应用于石墨烯的生长,配备等离子系统支持在较低温度下实现高质量单层沉积;单层覆盖率可达 * %,均匀性:<±5%;衬底尺寸: 6" 及以下基底或托架(支持小晶圆,小片样品);等离子增强沉积温度低,有可能实现在铜、镍之外基底上生长石墨烯;工艺速度快,仪器使用效率高;腔壁上的反应和产物沉积少或清洗方便快捷;自带闭路循环冷凝水系统,减少对安装设施条件依赖;随仪器提供多组成熟优化工艺,全自动操作,运行中可实时修改工艺;安全内锁与气体泄漏实时监控,有效防范仪器故障和安全事故; |
预计采购时间: | 点击查看>> |
备注: |
用户单位为石墨烯工程 (略) 。 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排, (略) 和采购文件为准。
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