三靶磁控溅射机；中标结果

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三靶磁控溅射机；中标结果



竞价结果详细（ 点击查看>> ）---- (略)
申购单主题： * 靶磁控溅射机；申购单位：材料 (略) 是否含税：否使用币种：人民币
申购备注：
设备名称 (略) 商型号是否标配数量报价类型售后服务
* 靶磁控溅射机； (略) 麦科诺VTC * 是1国内含税价/人民币
规格1.该系统为高真空多功能 * 靶（永磁靶）磁控溅射镀膜系统，系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜（需配射频电源）、介质复合膜和其它化学反应膜等。系统主要由溅射室、永磁磁控溅射靶（ * 个靶）、数字式直流电源、 * w全自动匹配射频电源、样品台、样品加热炉、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统等组成。 2.技术指标： 溅射室极限真空度：≤6.6x * -6Pa （经连续烘烤除气后）； 真空获得采用脂润滑分子泵（FF 点击查看>> L/S）和优质机械泵（4L/S）+CF * 气动插班阀+SMC气缸+千分尺调节和指示节流阀，此配置具有抽速快，可获得高真空环境，提供薄膜的洁净度。系统真空检漏漏率：≤5.0x * -7Pa.l/S； 系统从大气开始抽气：溅射室 * 分钟可达到6.6x * -4Pa（短时间暴露大气并充干燥氮气）；系统停泵关机 * 小时后真空度：≤5Pa 3. 溅射室中配有3套国产Ф * .8mm（2英寸）高性能永磁共焦磁控溅射靶（溅射靶角度 * 度）+1套垂直溅射Ф * .8mm（2英寸）磁控靶，各靶可独立/顺次/共同工作，磁控靶通水冷却，采用磁控靶在上，向下溅射成膜，磁控靶RF、DC、MF兼容，可以溅射磁性材料，磁控靶配有日本SMC气动挡板结构。 4. 样品台布置 (略) ，可放置最大4英寸样品1片（样品尺寸向下兼容），样品具有连续旋转功能，旋转0— * 转/分连续可调，样品台可加脉冲偏压。 5. 加热装置在采 (略) 加热，加热温度：室温— * °C，由热电偶闭环反馈控制，可控可调，采用日本SDC * 控温表。 6. 真空测量采用inficonMPG * 全量 (略) 测量。 7. 系统配有2路MFC控制进气系统（Ar、O2），流量分别为 * sccm、 * sccm。 8. 镀膜工艺压力控制采用气动插板阀+气动带千分尺调节节流阀+MFC控制。 9. 系统配有1台数字式 * W溅射电源（ * V/1A ）+2台 * W全自动匹配涉射频电源。 * . 系统气路阀门富士金气动隔膜阀密封截止。 * . 系统控制采用触摸屏+PLC自动 配置清单： * 溅射室 (略) 麦科诺 1套; 2英寸磁控靶 (略) 麦科诺 2套，磁控靶挡板组件 (略) 麦科诺 1套；样品台组件 (略) 麦科诺 1个 ；样品加热电源 (略) 麦科诺 1套； 样品加热控温装置 日本岛电 1套； 脂润滑分子泵 (略) 科仪 1套 FF 点击查看>> ；机械泵 (略) 卓捷 1套 RVP-4； 电动插板阀 (略) 科仪 1套 CC- * 套；气动旁抽阀 (略) 麦科诺 1套 KF * ； 气动截至阀 (略) 麦科诺 1套， KF * ； 全量程真空规 Inficon 1套 MPG * ； MFC (略) 怡东 2套 ET * ，气动隔膜阀 日本富斯金 1套 VCR；直流电源 (略) 昊源 1套 * w；射频电源 (略) 酷美 1套 * w；PLC+触摸屏控制系统 (略) 麦科诺 1套； 冷水机 (略) 麦科诺 1套 ARF * ； * 气泵 外购 1套。
中标供应商是否满足单价初选理由
沈 (略) 是 点击查看>> 最低价原则


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申购单主题： * 靶磁控溅射机；申购单位：材料 (略) 是否含税：否使用币种：人民币
申购备注：
设备名称 (略) 商型号是否标配数量报价类型售后服务
* 靶磁控溅射机； (略) 麦科诺VTC * 是1国内含税价/人民币
规格1.该系统为高真空多功能 * 靶（永磁靶）磁控溅射镀膜系统，系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜（需配射频电源）、介质复合膜和其它化学反应膜等。系统主要由溅射室、永磁磁控溅射靶（ * 个靶）、数字式直流电源、 * w全自动匹配射频电源、样品台、样品加热炉、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统等组成。 2.技术指标： 溅射室极限真空度：≤6.6x * -6Pa （经连续烘烤除气后）； 真空获得采用脂润滑分子泵（FF 点击查看>> L/S）和优质机械泵（4L/S）+CF * 气动插班阀+SMC气缸+千分尺调节和指示节流阀，此配置具有抽速快，可获得高真空环境，提供薄膜的洁净度。系统真空检漏漏率：≤5.0x * -7Pa.l/S； 系统从大气开始抽气：溅射室 * 分钟可达到6.6x * -4Pa（短时间暴露大气并充干燥氮气）；系统停泵关机 * 小时后真空度：≤5Pa 3. 溅射室中配有3套国产Ф * .8mm（2英寸）高性能永磁共焦磁控溅射靶（溅射靶角度 * 度）+1套垂直溅射Ф * .8mm（2英寸）磁控靶，各靶可独立/顺次/共同工作，磁控靶通水冷却，采用磁控靶在上，向下溅射成膜，磁控靶RF、DC、MF兼容，可以溅射磁性材料，磁控靶配有日本SMC气动挡板结构。 4. 样品台布置 (略) ，可放置最大4英寸样品1片（样品尺寸向下兼容），样品具有连续旋转功能，旋转0— * 转/分连续可调，样品台可加脉冲偏压。 5. 加热装置在采 (略) 加热，加热温度：室温— * °C，由热电偶闭环反馈控制，可控可调，采用日本SDC * 控温表。 6. 真空测量采用inficonMPG * 全量 (略) 测量。 7. 系统配有2路MFC控制进气系统（Ar、O2），流量分别为 * sccm、 * sccm。 8. 镀膜工艺压力控制采用气动插板阀+气动带千分尺调节节流阀+MFC控制。 9. 系统配有1台数字式 * W溅射电源（ * V/1A ）+2台 * W全自动匹配涉射频电源。 * . 系统气路阀门富士金气动隔膜阀密封截止。 * . 系统控制采用触摸屏+PLC自动 配置清单： * 溅射室 (略) 麦科诺 1套; 2英寸磁控靶 (略) 麦科诺 2套，磁控靶挡板组件 (略) 麦科诺 1套；样品台组件 (略) 麦科诺 1个 ；样品加热电源 (略) 麦科诺 1套； 样品加热控温装置 日本岛电 1套； 脂润滑分子泵 (略) 科仪 1套 FF 点击查看>> ；机械泵 (略) 卓捷 1套 RVP-4； 电动插板阀 (略) 科仪 1套 CC- * 套；气动旁抽阀 (略) 麦科诺 1套 KF * ； 气动截至阀 (略) 麦科诺 1套， KF * ； 全量程真空规 Inficon 1套 MPG * ； MFC (略) 怡东 2套 ET * ，气动隔膜阀 日本富斯金 1套 VCR；直流电源 (略) 昊源 1套 * w；射频电源 (略) 酷美 1套 * w；PLC+触摸屏控制系统 (略) 麦科诺 1套； 冷水机 (略) 麦科诺 1套 ARF * ； * 气泵 外购 1套。
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