超宽禁带半导体薄膜沉积系统结果公告结果公告
超宽禁带半导体薄膜沉积系统结果公告结果公告
成交供应商: | 北 (略) |
选择理由: | 总价最低,推荐成交 |
质疑投诉说明: | 如有质疑,请在三个工作日内将质疑说明文件(纸质)递交至国有资产管理处,逾期不予受理。 |
项目名称 | 超宽禁带半导体薄膜沉积系统 | 项目编号 | ZBDXJC-* | ||
公告发布日期 | 2023/11/28 17:02 | 报价截止时间 | 2023/12/01 17:02 | ||
采购单位 | 中北大学 | 付款条款 | 货物交付到现场,安装、调试验收合格,经验收审计完成后,学校一次性支付100%的合同款项。 | ||
联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系手机 | 中标后在我参与的项目中查看 | ||
是否需要踏勘 | 否 | ||||
踏勘联系人 | 踏勘联系电话 | ||||
踏勘地点 | 踏勘联系时间 | ||||
采购预算 | ¥295,600.00 | 成交金额 | ¥267,000.00 | ||
送货/施工/服务期限 | 合同生效之日起合同生效之日起,60个工作日内完成送货日内 | ||||
送货/施工/服务地址 | (略) (略) 路3号 |
采购内容 | 是否进口 | 计量单位 | 采购数量 | 售后服务及其他要求响应 | 分项报价 | |
超宽禁带半导体薄膜沉积系统 | 否 | 套 | 1 | 交货后提供至少一周现场设备使用及维护培训服务,五年内无条件免费上门维修设备且保障在24小时内及时回应,五年内免费线上进行相关技术回复; | ¥267,000.00 | |
参考品牌及型号 | 不限定品牌型号 | |||||
技术参数要求 | 设备主要技术参数 ★1真空腔室不小于φ350×H350mm,SUS304优质不锈钢真空腔室,上开门结构,顶板焊水线; ★2、真空系统复合分子泵+直联高速旋片式真空泵+高真空阀门+数显复合真空计; ★3真空极限6.0×10-5Pa(设备空载,抽真空24小时) ★4、升压率设备升压率:≤0.8Pa/h(12小时平均值); 设备保压:停泵12小时后,设备真空度≤10Pa; 5、抽速从大气抽至5.0×10-3Pa≤15min(设备空载); 设备配置 1、复合分子泵 抽速不小于600 L/s 2、机械泵 抽速不小于6L/s ★3、插板阀 DN150高真空电动插板阀 4、前级/预抽阀:DN40气动挡板阀2个; 5、放气阀:Φ6mm,电磁截止阀; 6、进气阀Φ6mm,电磁截止阀; 7、数显复合真空计:两低一高,含规管; ★8、真空室不小于Ф350×H350mm,采用SUS304优质不锈钢.; 采用立式、圆柱体、气缸助力上翻盖结; ★9、磁控溅射室磁控靶,直径2英寸永磁靶不少于3个; 10、配独立挡板,防止交叉污染; ★11、基片台尺寸Φ120mm,最大样品尺寸小于Φ120mm 驱动电机:转速0~20转/分钟,连续可调 ★12、基片台加热温度500℃,采用电阻铠装加热器及绝缘、屏蔽等; 13、基片台气动挡板; 14、观察窗 Φ80 15、RF射频电源 500W 自动匹配不少于1台; ★16、直流电源 1000W;数字式直流电源数显可调控不少于1台; 17、脉冲偏压电源:-1kV;不少于1台; 18、总控电源 380V. 19、控制面板电源 220V 20、转动控制电源 步进电机、转动等控制 21、电源机柜 10英寸触摸屏+PLC,完善的逻辑程序互锁保护系统 22、气路系统 ★23、质量流量控制器及量程范围:Ar,100sccm;N2,20sccm;O2,20sccm;不少于3路; 24、设备尺寸:长×宽×高为1600×800×1920mm(长宽高),简洁美观,上面板为不锈钢罩板. 25、冷水机 2P 26、空压机 TYW-Ⅱ型 27、主要氟橡胶圈 28、主要无氧铜圈 29、不锈钢螺钉、螺母 30、水报警装置 |
成交供应商: | 北 (略) |
选择理由: | 总价最低,推荐成交 |
质疑投诉说明: | 如有质疑,请在三个工作日内将质疑说明文件(纸质)递交至国有资产管理处,逾期不予受理。 |
项目名称 | 超宽禁带半导体薄膜沉积系统 | 项目编号 | ZBDXJC-* | ||
公告发布日期 | 2023/11/28 17:02 | 报价截止时间 | 2023/12/01 17:02 | ||
采购单位 | 中北大学 | 付款条款 | 货物交付到现场,安装、调试验收合格,经验收审计完成后,学校一次性支付100%的合同款项。 | ||
联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系手机 | 中标后在我参与的项目中查看 | ||
是否需要踏勘 | 否 | ||||
踏勘联系人 | 踏勘联系电话 | ||||
踏勘地点 | 踏勘联系时间 | ||||
采购预算 | ¥295,600.00 | 成交金额 | ¥267,000.00 | ||
送货/施工/服务期限 | 合同生效之日起合同生效之日起,60个工作日内完成送货日内 | ||||
送货/施工/服务地址 | (略) (略) 路3号 |
采购内容 | 是否进口 | 计量单位 | 采购数量 | 售后服务及其他要求响应 | 分项报价 | |
超宽禁带半导体薄膜沉积系统 | 否 | 套 | 1 | 交货后提供至少一周现场设备使用及维护培训服务,五年内无条件免费上门维修设备且保障在24小时内及时回应,五年内免费线上进行相关技术回复; | ¥267,000.00 | |
参考品牌及型号 | 不限定品牌型号 | |||||
技术参数要求 | 设备主要技术参数 ★1真空腔室不小于φ350×H350mm,SUS304优质不锈钢真空腔室,上开门结构,顶板焊水线; ★2、真空系统复合分子泵+直联高速旋片式真空泵+高真空阀门+数显复合真空计; ★3真空极限6.0×10-5Pa(设备空载,抽真空24小时) ★4、升压率设备升压率:≤0.8Pa/h(12小时平均值); 设备保压:停泵12小时后,设备真空度≤10Pa; 5、抽速从大气抽至5.0×10-3Pa≤15min(设备空载); 设备配置 1、复合分子泵 抽速不小于600 L/s 2、机械泵 抽速不小于6L/s ★3、插板阀 DN150高真空电动插板阀 4、前级/预抽阀:DN40气动挡板阀2个; 5、放气阀:Φ6mm,电磁截止阀; 6、进气阀Φ6mm,电磁截止阀; 7、数显复合真空计:两低一高,含规管; ★8、真空室不小于Ф350×H350mm,采用SUS304优质不锈钢.; 采用立式、圆柱体、气缸助力上翻盖结; ★9、磁控溅射室磁控靶,直径2英寸永磁靶不少于3个; 10、配独立挡板,防止交叉污染; ★11、基片台尺寸Φ120mm,最大样品尺寸小于Φ120mm 驱动电机:转速0~20转/分钟,连续可调 ★12、基片台加热温度500℃,采用电阻铠装加热器及绝缘、屏蔽等; 13、基片台气动挡板; 14、观察窗 Φ80 15、RF射频电源 500W 自动匹配不少于1台; ★16、直流电源 1000W;数字式直流电源数显可调控不少于1台; 17、脉冲偏压电源:-1kV;不少于1台; 18、总控电源 380V. 19、控制面板电源 220V 20、转动控制电源 步进电机、转动等控制 21、电源机柜 10英寸触摸屏+PLC,完善的逻辑程序互锁保护系统 22、气路系统 ★23、质量流量控制器及量程范围:Ar,100sccm;N2,20sccm;O2,20sccm;不少于3路; 24、设备尺寸:长×宽×高为1600×800×1920mm(长宽高),简洁美观,上面板为不锈钢罩板. 25、冷水机 2P 26、空压机 TYW-Ⅱ型 27、主要氟橡胶圈 28、主要无氧铜圈 29、不锈钢螺钉、螺母 30、水报警装置 |
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