磁控溅射系统成交结果公告
磁控溅射系统成交结果公告
项目名称 | 磁控溅射系统 | 项目编号 | JLU-KC* |
---|---|---|---|
公告开始日期 | * | 公告截止日期 | * |
采购单位 | 吉林大学 | 付款方式 | 货到验收合格办理相关手续后100%付款。 |
联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
签约时间要求 | 成交后7个工作日内 | 到货时间要求 | 国内合同签订后90个工作日内 |
预 算 | *.0 | ||
收货地址 | 吉林大学 | ||
供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
---|---|---|---|
磁控溅射系统 | 1 | 台 | 电子工业生产设备 |
品牌 | 苏州方昇 |
---|---|
型号 | * |
品牌2 | 无 |
型号 | 无 |
品牌3 | 无 |
型号 | 无 |
预算 | *.0 |
技术参数及配置要求 | 1、样品台1.1、样品架夹具可以固定 1 个 3 英寸或更大尺寸有效蒸镀面积的基片托。1.2、基片盘可旋转,采用伺服电机驱动,旋转速度 0-30 转/分可调;1.3、样片旋转要求采用磁流体密封,保证密封可靠性;1.4、基片盘下方挡板采用磁流体密封,可在真空状态下打开关闭,用作预溅射或遮挡靶表面氧化层或杂质用。1.5、基片架带升降功能,升降通过电机带动滚珠丝杆实现,焊接波纹管密封,升降行程≥50mm。2、溅射靶2.1、共 4 组共焦靶,靶尺寸:2 英寸;靶材厚度 3-5mm,靶的正上方装有防污板;2.2、溅射靶采用水冷,以防止溅射过程中温度过高导致磁铁消磁;2.3、溅射靶安装在真空腔体底部,共焦于基片盘,对基片盘共焦溅射;2.4、溅射靶的溅射角度可调,10-30 度;2.5、溅射均匀性:优于±5%;2.6、溅射电源:DC 电源 2 台,500W;AC 电源 2 台,600W。3、气路控制系统3.1、三路进气,一路氩气,二路氮气,三路备用,前端带有截止阀,辅助控制;3.2、采用Aera 质量流量控制器控制气体流量,量程 0-100SCCM,氮气标定;3.3、主抽气管道上带有节流挡板,配合插板阀辅助调节溅射压力。4、蒸发腔体4.1、腔体采用 SUS304 不锈钢制作,其内部尺寸约为450×450×530mm;4.2、腔体漏率:整体漏率优于 5×10-10Pa.m3/S,保压 12 小时,压强小于 10Pa。5、蒸镀真空系统5.1、极限真空优于: 4×10-5pa;5.2、主泵抽速不低于 730L/S,采用分子泵;5.3、前级泵抽速不低于 30 m3/h;5.4、气动高真空插板阀,通径大于等于 150mm;5.5、带有旁抽式结构,可不停主泵开启真空室。相关的阀门操作具体互锁保护功能,防止误操作;5.6、腔体充氮气,从常压抽至 5×10-4pa 的时间要求不超过 15 分钟。6、蒸镀软件控制系统6.1、主体采用工控机,相关阀门软件控制,减小误操作的可能性;6.2、电器控制面板与腔体,真空系统等集成在一个型材框架内,易于维护;6.3、分子泵电源含有过流,过压,过热等报警保护。7.提供生产厂家盖章针对本项目的售后服务承诺书和授权书。 |
售后服务 | (略) 点:外地;电话支持:7x24小时;服务年限:一年;服务时限:报修后24小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:一年;1、卖方须在交货日期2周内到买方提供的现场免费安装、调试设备并验收,直至技术指标与标书符合,安装、校准与试运行时,应对仪器设备的质量、规格、性能、数量进行详细和全面的检查。 2 、免费提供现场培训,人数不限,主要包括仪器的基本原理、操作应用及仪器的维护保养知识,直到用户能正常使用和维护仪器。 3 、厂家提供仪器一年的免费保修期,在保修期内,所有服务及配件全部免费,供货厂商在接到用户要求对所购仪器设备进行维修时,应在24小时之内给予答复,并派出维修人员在三日内到达用户现场进行维修服务。; |
项目名称 | 磁控溅射系统 | 项目编号 | JLU-KC* |
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公告开始日期 | * | 公告截止日期 | * |
采购单位 | 吉林大学 | 付款方式 | 货到验收合格办理相关手续后100%付款。 |
联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
签约时间要求 | 成交后7个工作日内 | 到货时间要求 | 国内合同签订后90个工作日内 |
预 算 | *.0 | ||
收货地址 | 吉林大学 | ||
供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
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磁控溅射系统 | 1 | 台 | 电子工业生产设备 |
品牌 | 苏州方昇 |
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型号 | * |
品牌2 | 无 |
型号 | 无 |
品牌3 | 无 |
型号 | 无 |
预算 | *.0 |
技术参数及配置要求 | 1、样品台1.1、样品架夹具可以固定 1 个 3 英寸或更大尺寸有效蒸镀面积的基片托。1.2、基片盘可旋转,采用伺服电机驱动,旋转速度 0-30 转/分可调;1.3、样片旋转要求采用磁流体密封,保证密封可靠性;1.4、基片盘下方挡板采用磁流体密封,可在真空状态下打开关闭,用作预溅射或遮挡靶表面氧化层或杂质用。1.5、基片架带升降功能,升降通过电机带动滚珠丝杆实现,焊接波纹管密封,升降行程≥50mm。2、溅射靶2.1、共 4 组共焦靶,靶尺寸:2 英寸;靶材厚度 3-5mm,靶的正上方装有防污板;2.2、溅射靶采用水冷,以防止溅射过程中温度过高导致磁铁消磁;2.3、溅射靶安装在真空腔体底部,共焦于基片盘,对基片盘共焦溅射;2.4、溅射靶的溅射角度可调,10-30 度;2.5、溅射均匀性:优于±5%;2.6、溅射电源:DC 电源 2 台,500W;AC 电源 2 台,600W。3、气路控制系统3.1、三路进气,一路氩气,二路氮气,三路备用,前端带有截止阀,辅助控制;3.2、采用Aera 质量流量控制器控制气体流量,量程 0-100SCCM,氮气标定;3.3、主抽气管道上带有节流挡板,配合插板阀辅助调节溅射压力。4、蒸发腔体4.1、腔体采用 SUS304 不锈钢制作,其内部尺寸约为450×450×530mm;4.2、腔体漏率:整体漏率优于 5×10-10Pa.m3/S,保压 12 小时,压强小于 10Pa。5、蒸镀真空系统5.1、极限真空优于: 4×10-5pa;5.2、主泵抽速不低于 730L/S,采用分子泵;5.3、前级泵抽速不低于 30 m3/h;5.4、气动高真空插板阀,通径大于等于 150mm;5.5、带有旁抽式结构,可不停主泵开启真空室。相关的阀门操作具体互锁保护功能,防止误操作;5.6、腔体充氮气,从常压抽至 5×10-4pa 的时间要求不超过 15 分钟。6、蒸镀软件控制系统6.1、主体采用工控机,相关阀门软件控制,减小误操作的可能性;6.2、电器控制面板与腔体,真空系统等集成在一个型材框架内,易于维护;6.3、分子泵电源含有过流,过压,过热等报警保护。7.提供生产厂家盖章针对本项目的售后服务承诺书和授权书。 |
售后服务 | (略) 点:外地;电话支持:7x24小时;服务年限:一年;服务时限:报修后24小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:一年;1、卖方须在交货日期2周内到买方提供的现场免费安装、调试设备并验收,直至技术指标与标书符合,安装、校准与试运行时,应对仪器设备的质量、规格、性能、数量进行详细和全面的检查。 2 、免费提供现场培训,人数不限,主要包括仪器的基本原理、操作应用及仪器的维护保养知识,直到用户能正常使用和维护仪器。 3 、厂家提供仪器一年的免费保修期,在保修期内,所有服务及配件全部免费,供货厂商在接到用户要求对所购仪器设备进行维修时,应在24小时之内给予答复,并派出维修人员在三日内到达用户现场进行维修服务。; |
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