原子层沉积设备成交结果公告
原子层沉积设备成交结果公告
项目概况
项目名称 | 原子层沉积设备 | 项目编号 | BH* |
开始时间 | ** 14:47 | 结束时间 | ** 14:47 |
供应商资格要求 | 参照《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定的资格条件。 | 预算金额(元) | *.00 |
联系电话 | * |
成交供应商信息
成交供应商 | 武 (略) | 成交金额 | * |
成交理由 | 符合需求,价格最低 |
采购货物信息列表
序号 | 货物(服务)名称 | 数量 | 计量单位 | 预算单价 | ||
---|---|---|---|---|---|---|
1 | 原子层沉积设备 | 1 | 台 | * | ||
技术参数 | 1. 腔室:外热式水平流单腔腔室; 2. 样品台配有可拆卸片托,可放下最大 8 英寸晶圆; 3. 反应温度:最高 150℃,温度控制精度±1℃ 4. 2 路标准加热液态前驱体源,配置 swagelok 高温快速 ALD阀 (响应时间<10ms)、手动阀、50ml 不锈钢源瓶,源瓶及管路加热 温度 RT-200℃,控制精度±1℃; 5. 1 路常温源,配置 swagelok 快速 ALD 阀(响应时间<10ms)、 手动阀、50ml 不锈钢源瓶; 6. 含两路载气系统,全套 swagelok 管路+VCR 密封,前驱体源管路 具有在线清洗功能 7. 高性能真空系统,整机极限真空<5×10-2Torr,真空漏率< 5×10-7 Pa·L/S 8. 配置机械泵,额定抽速≥60m3/h 9. 真空泵前级配置热阱,加热温度最高 500℃,控制精度±1℃,用 于吸附、分解未反应的前驱体源; 10. 进口压力传感器(真空计),真空计前设有保护真空计的高效过 滤网以及气动隔膜阀; 11. 高精度 PLC+工控机沉积自动控制系统,满足高精度 ALD沉积需 求 12. 可视化的操作界面,实时显示系统各部分运行状态,可方便的调 节温度、流量、脉冲时间等参数,编辑并保存配方参数; 13. 多用户权限分配,软硬件互锁,异常报警、紧急停机等功能确保 安全性; 14. 沉积模式:连续模式、停流模式; 15. 人机界面:外挂式触摸屏,可自由选择悬停位置 16. 在 8英寸硅片上以厂家提供的工艺配方沉积 300 循环氧化锡, 以晶圆上至少 9 个均匀分散点进行膜厚测试,膜厚非均匀性≤±2% | |||||
相关材料 |
项目概况
项目名称 | 原子层沉积设备 | 项目编号 | BH* |
开始时间 | ** 14:47 | 结束时间 | ** 14:47 |
供应商资格要求 | 参照《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定的资格条件。 | 预算金额(元) | *.00 |
联系电话 | * |
成交供应商信息
成交供应商 | 武 (略) | 成交金额 | * |
成交理由 | 符合需求,价格最低 |
采购货物信息列表
序号 | 货物(服务)名称 | 数量 | 计量单位 | 预算单价 | ||
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1 | 原子层沉积设备 | 1 | 台 | * | ||
技术参数 | 1. 腔室:外热式水平流单腔腔室; 2. 样品台配有可拆卸片托,可放下最大 8 英寸晶圆; 3. 反应温度:最高 150℃,温度控制精度±1℃ 4. 2 路标准加热液态前驱体源,配置 swagelok 高温快速 ALD阀 (响应时间<10ms)、手动阀、50ml 不锈钢源瓶,源瓶及管路加热 温度 RT-200℃,控制精度±1℃; 5. 1 路常温源,配置 swagelok 快速 ALD 阀(响应时间<10ms)、 手动阀、50ml 不锈钢源瓶; 6. 含两路载气系统,全套 swagelok 管路+VCR 密封,前驱体源管路 具有在线清洗功能 7. 高性能真空系统,整机极限真空<5×10-2Torr,真空漏率< 5×10-7 Pa·L/S 8. 配置机械泵,额定抽速≥60m3/h 9. 真空泵前级配置热阱,加热温度最高 500℃,控制精度±1℃,用 于吸附、分解未反应的前驱体源; 10. 进口压力传感器(真空计),真空计前设有保护真空计的高效过 滤网以及气动隔膜阀; 11. 高精度 PLC+工控机沉积自动控制系统,满足高精度 ALD沉积需 求 12. 可视化的操作界面,实时显示系统各部分运行状态,可方便的调 节温度、流量、脉冲时间等参数,编辑并保存配方参数; 13. 多用户权限分配,软硬件互锁,异常报警、紧急停机等功能确保 安全性; 14. 沉积模式:连续模式、停流模式; 15. 人机界面:外挂式触摸屏,可自由选择悬停位置 16. 在 8英寸硅片上以厂家提供的工艺配方沉积 300 循环氧化锡, 以晶圆上至少 9 个均匀分散点进行膜厚测试,膜厚非均匀性≤±2% | |||||
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