高真空多靶磁控溅射镀膜机成交公告
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高真空多靶磁控溅射镀膜机成交公告
1.项目名称：高真空多靶磁控溅射镀膜机
2.成交供应商名称：研博 (略)
3.成交供应商地址：河北任丘经济开发区
4.成交金额(币种)：(人民币)38.000万元
5.付款方式：合同签订后15个工作日之内预付合同金额的20%，货到验收合格后付合同金额80%。
6.主要成交标的：
序号 | （货物）名称 | 型号 | 制造商和产地 | 数量 | 单价(元) | 小计(元) |
1 | 高真空多靶磁控溅射镀膜机 | JCP500F | 北 (略) | 1 | * | * |
2 | ||||||
3 |
华中科技大学光学与 (略)
**日
1.项目名称：高真空多靶磁控溅射镀膜机
2.成交供应商名称：研博 (略)
3.成交供应商地址：河北任丘经济开发区
4.成交金额(币种)：(人民币)38.000万元
5.付款方式：合同签订后15个工作日之内预付合同金额的20%，货到验收合格后付合同金额80%。
6.主要成交标的：
序号 | （货物）名称 | 型号 | 制造商和产地 | 数量 | 单价(元) | 小计(元) |
1 | 高真空多靶磁控溅射镀膜机 | JCP500F | 北 (略) | 1 | * | * |
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