磁控溅射仪采购项目成交公告

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磁控溅射仪采购项目成交公告

南方科技大学 SUSTech-JC-2024-00842 竞采结果公告
项目名称 磁控溅射仪采购项目
项目编号 SUSTech-JC-2024-00842
项目类型 货物类
成交方式 最低价成交
公示时间 本公告自发布之日起三日
成交单位 北京 (略)
成交金额(元) *.00
成交理由 最低价成交
预算(元) *.0
项目预算是否含税 国产含税
备注



采购明细
序号 名称 数量 单位 单价/元(报价) 总价/元(报价)

1

磁控溅射仪(核心货物)

1

*.0

*.0

是否接受进口

拒绝进口

品牌

北京 (略)

型号

MGDT-1

生产厂商

北京 (略)

产地信息

(略) 怀柔区雁栖 (略) 13号楼二层

技术规格及参数

1.溅射室极限真空度:≤6.0x10-5 Pa (经烘烤除气后);
真空获得采用FF150/700分子泵和优质机械泵(RVP-9,9L/S)+CF150电动插班阀,此配置具有抽速快,可获得高真空环境,提供薄膜的洁净度。
系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S;
系统从大气开始抽气:溅射室25分钟可达到7x10-4 Pa;
系统停泵关机12小时后真空度:≤5Pa
2,溅射室中配有3套国产50mm高性能永磁共焦磁控溅射靶(其中含一个强磁靶,各溅射靶距离可调),靶材尺寸:Ф50mm。分布在一个圆周上,各靶可独立/顺次/共同工作,磁控靶通水冷却,采用磁控靶在上,垂直向下溅射成膜,磁控靶RF、DC、MF兼容,可以溅射磁性材料,磁控靶配有气动挡板截流结构。磁控靶与基片的距离可调,调节距离为:60~90mm。
3.样品台布置在真空室底部,可放置最大直径100mm样品,样品具有连续旋转功能,旋转0—30转/分连续可调。
4.加热装置在真空室上法兰上,对基片托板进行加热,通过热电偶控制控温电源实现闭环控制,系统由加热器和1个加热控温电源组成,加热电源配备日本进口控温表,控温方式为PID自动控温及数字显示;样品加热温度:室温~500°C,连续可调;
5.系统配有三路国产怡东质量流量计+MFC控制进气系统(氩、氧、氧),流量分别为100SCCM、50SCCM、20SCCM。 共3路,配备独立混气室;
6.系统配有2台数字式500w脉冲直流电源和1台500w全自动匹配射频电源。1套-1000脉冲偏压电源;
7.加热装置在采用进口氮化钽加热器进行加热,加热温度:室温—1100°C,可耐氧气、耐氮气进行化学反应沉积,由热电偶闭环反馈控制,可控可调。
8.尺寸为4英寸的样品可均镀膜,不均匀度 为≤±3%(以镀膜金属薄膜进行验收,镀金属膜厚度约200nm)
9.后期提供相关涂层材料的研发协助,包括中熵合金,高熵合金,金属氧化物,高分子涂层等磁控溅射沉积工艺优化以及新型涂层材料开发;

质保期

质保期为一年

售后要求

1、设备安装、调试和验收:在合同生效后的1个月内向用户提供详细的安装要求并提供技术咨询;仪器到达用户指定交货地点后根据用户的时间安排,仪器制造商 (或代理商)在接到用户通知后15天内进行安装调试,直至通过验收 2、技术培训:在用户所在地对用户技术人员(至少2人) 进行至少两天的培训,培训日程视实际情况另走;培训内容包括仪器的技术原理、操作、数据处理、基本维护等。 3、厂家保证提供及时优质的售后服务,提供7x24小时的售后服务,接到用户需求后8小时内响应,如有需要48小时内到达用户现场。 4、质保期过后,对仪器提供终身维修服务,能提供广泛、即时、优惠的技术服务,并提供质品上乘、价格合理的各种配件。 5、后期提供相关涂层材料的研发协助,包括中熵合金,高熵合金,金属氧化物,高分子涂层等磁控溅射沉积工艺优化以及新型涂层材料开发

付款方式 货到指定地点、安装验收合格并提供全额发票后,经学校确认无质量问题后支付100%的货款。
交货期 合同签订后30天(自然日)内,具体时间根据学校要求提前7天(自然日)通知送货
南方科技大学 SUSTech-JC-2024-00842 竞采结果公告
项目名称 磁控溅射仪采购项目
项目编号 SUSTech-JC-2024-00842
项目类型 货物类
成交方式 最低价成交
公示时间 本公告自发布之日起三日
成交单位 北京 (略)
成交金额(元) *.00
成交理由 最低价成交
预算(元) *.0
项目预算是否含税 国产含税
备注



采购明细
序号 名称 数量 单位 单价/元(报价) 总价/元(报价)

1

磁控溅射仪(核心货物)

1

*.0

*.0

是否接受进口

拒绝进口

品牌

北京 (略)

型号

MGDT-1

生产厂商

北京 (略)

产地信息

(略) 怀柔区雁栖 (略) 13号楼二层

技术规格及参数

1.溅射室极限真空度:≤6.0x10-5 Pa (经烘烤除气后);
真空获得采用FF150/700分子泵和优质机械泵(RVP-9,9L/S)+CF150电动插班阀,此配置具有抽速快,可获得高真空环境,提供薄膜的洁净度。
系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S;
系统从大气开始抽气:溅射室25分钟可达到7x10-4 Pa;
系统停泵关机12小时后真空度:≤5Pa
2,溅射室中配有3套国产50mm高性能永磁共焦磁控溅射靶(其中含一个强磁靶,各溅射靶距离可调),靶材尺寸:Ф50mm。分布在一个圆周上,各靶可独立/顺次/共同工作,磁控靶通水冷却,采用磁控靶在上,垂直向下溅射成膜,磁控靶RF、DC、MF兼容,可以溅射磁性材料,磁控靶配有气动挡板截流结构。磁控靶与基片的距离可调,调节距离为:60~90mm。
3.样品台布置在真空室底部,可放置最大直径100mm样品,样品具有连续旋转功能,旋转0—30转/分连续可调。
4.加热装置在真空室上法兰上,对基片托板进行加热,通过热电偶控制控温电源实现闭环控制,系统由加热器和1个加热控温电源组成,加热电源配备日本进口控温表,控温方式为PID自动控温及数字显示;样品加热温度:室温~500°C,连续可调;
5.系统配有三路国产怡东质量流量计+MFC控制进气系统(氩、氧、氧),流量分别为100SCCM、50SCCM、20SCCM。 共3路,配备独立混气室;
6.系统配有2台数字式500w脉冲直流电源和1台500w全自动匹配射频电源。1套-1000脉冲偏压电源;
7.加热装置在采用进口氮化钽加热器进行加热,加热温度:室温—1100°C,可耐氧气、耐氮气进行化学反应沉积,由热电偶闭环反馈控制,可控可调。
8.尺寸为4英寸的样品可均镀膜,不均匀度 为≤±3%(以镀膜金属薄膜进行验收,镀金属膜厚度约200nm)
9.后期提供相关涂层材料的研发协助,包括中熵合金,高熵合金,金属氧化物,高分子涂层等磁控溅射沉积工艺优化以及新型涂层材料开发;

质保期

质保期为一年

售后要求

1、设备安装、调试和验收:在合同生效后的1个月内向用户提供详细的安装要求并提供技术咨询;仪器到达用户指定交货地点后根据用户的时间安排,仪器制造商 (或代理商)在接到用户通知后15天内进行安装调试,直至通过验收 2、技术培训:在用户所在地对用户技术人员(至少2人) 进行至少两天的培训,培训日程视实际情况另走;培训内容包括仪器的技术原理、操作、数据处理、基本维护等。 3、厂家保证提供及时优质的售后服务,提供7x24小时的售后服务,接到用户需求后8小时内响应,如有需要48小时内到达用户现场。 4、质保期过后,对仪器提供终身维修服务,能提供广泛、即时、优惠的技术服务,并提供质品上乘、价格合理的各种配件。 5、后期提供相关涂层材料的研发协助,包括中熵合金,高熵合金,金属氧化物,高分子涂层等磁控溅射沉积工艺优化以及新型涂层材料开发

付款方式 货到指定地点、安装验收合格并提供全额发票后,经学校确认无质量问题后支付100%的货款。
交货期 合同签订后30天(自然日)内,具体时间根据学校要求提前7天(自然日)通知送货
    
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