一、采购单位：电子与 (略)

二、项目名称：小型磁控溅射镀膜机

三、公开信息：

1.设备名称：小型磁控溅射镀膜机

2.数量：1

3.关键技术指标：1.真空镀膜室：304 不锈钢材料，圆柱式，门上配有观察窗；镀膜室内净尺寸约为：300* 300 * H300mm（以最终设计为准）； 2.真空极限：优于 8*10 - 5 Pa； 3.旋转加热基片台：承载最大直径 75 mm 基片；基片台磁流体密封，电机驱动基片台旋转， 旋转速度 0-20 转/分钟可调；配挡板。样品台加热温度室温~350°； 4.均匀性指标：75 mm 直径范围内不均匀性《±5%；

4.预算金额：(略)

5.拟成交供应商： (略) (略)

6.拟成交价格：(略)

电子与 (略)

2024年10月22日

一、采购单位：电子与 (略)

二、项目名称：小型磁控溅射镀膜机

三、公开信息：

1.设备名称：小型磁控溅射镀膜机

2.数量：1

3.关键技术指标：1.真空镀膜室：304 不锈钢材料，圆柱式，门上配有观察窗；镀膜室内净尺寸约为：300* 300 * H300mm（以最终设计为准）； 2.真空极限：优于 8*10 - 5 Pa； 3.旋转加热基片台：承载最大直径 75 mm 基片；基片台磁流体密封，电机驱动基片台旋转， 旋转速度 0-20 转/分钟可调；配挡板。样品台加热温度室温~350°； 4.均匀性指标：75 mm 直径范围内不均匀性《±5%；

4.预算金额：(略)

5.拟成交供应商： (略) (略)

6.拟成交价格：(略)

电子与 (略)

2024年10月22日