高真空镀膜仪临床医学研究中心超长期国债项目成交结果公告

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高真空镀膜仪临床医学研究中心超长期国债项目成交结果公告


成交供应商：北京诺和 (略)
成交金额：无
成交理由：无
项目名称 高真空镀膜仪（临床医学研究中心超长期国债项目） 项目编号 WLU-HW-KS-NM-2024-1413
公告开始日期 * 公告截止日期 *
采购单位 西湖大学 付款方式 内贸部分：货到验收合格后付全款
联系人 中标后在我参与的项目中查看 联系电话 中标后在我参与的项目中查看
签约时间要求 无 到货时间要求 内贸部分：一周
预 算 *.0
收货地址 (略)
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件
采购商品 采购数量 计量单位 所属分类
高真空镀膜仪 1 台 无
品牌 无
型号 无
品牌2 无
型号 无
品牌3 无
型号 无
预算 *.0
技术参数及配置要求 1. 仪器采用了双组件设计，即可同时安装磁控溅射组件和热蒸发组件，利用磁控溅射组件可以对各种金属材料进行溅射镀膜；利用热蒸发组件在进行碳膜的制备，在两种工作模式切换时使用防污染挡板避免交叉污染。 2. 采用32位的ARM芯 (略) 理器，全自主知识产权，扩展性好，可选配膜厚监控组件； 3. 采用7英寸彩色触摸式液晶显示屏，分辨率为800×480，全中文操作界面，全数字显示。 3.1 对应磁控溅射：平面磁控靶结构，确保样品无热损伤 可设定：（1）溅射电流；（2）溅射时间；（3）靶材种类等参数； 可显示：（1）溅射电流；（2）溅射剩余时间；（3）工作真空度；（4）靶材累计使用时间；（5）设备累计使用时间；（6）分子泵转速、轴承温度、工作电流、电压；（7）当前使用靶材种类；（8）工作方式等参数。 3.2 对应热蒸发：采用4组蒸发源设计，方便用户使用，无需每次更换 可设定：（1）蒸发源使用数量（连续工作模式）；（2）蒸发脉冲数量（脉冲工作模式）；（3）系统开始工作真空度；（4）是否加热除气等； 可显示：（1）设备累计使用时间；（2）工作时加热电压；（3）剩余未工作蒸发源数量（连续工作模式）；（4）剩余脉冲数量（脉冲工作模式）；（5）系统实时真空度。 4. 真空室采用高硅硼玻璃，尺寸为约为200（O.D.）×130(H)mm; 5. 溅射电流：5-200mA连续可调，最小步长为1mA； 6. 溅射时长：1-999s连续可调，最小步长为1s; 7. 可用溅射靶材：所有金属靶材、ITO靶，本机内置15种靶材的溅射参数，可以直接使用。 8. 热蒸发组件具备连续工作模式和脉冲工作模式，适用所有样品； 9. 热蒸发组件最大可设定蒸发源为4组，采用0.8mm的进口高纯碳纤维做为蒸发源； 10. 热蒸发组件在抽真空时可以自动检测4组蒸发源的状态并显示在操作界面上，在工作时自动选择/切换状态完好的蒸发源进行工作； 11. 样品台尺寸：标配Φ60mm样品台两个（蒸发镀碳和溅射镀金各一个）；可选配倾斜行星转台等； 12. 高真空泵：进口涡轮分子泵，抽速为90L/s；系统可以实时读取分子泵的转速、电源、电流、轴承温度等参数，其中分子泵工作转速可在800Hz-1200Hz之间调整，便于用户更好的了解和使用分子泵。 13. 低真空泵：旋片式真空泵，抽速为1L/s; 14. 真空规管：进口复合规，量程为1E-3Pa到1E5Pa； 15. 系统极限真空：＜5E-3Pa； 16. 工作模式：具备自动和手动两种工作模式，可在系统内设置； 17. 样品台旋转：4-20rpm可调； 18. 具备溅射电流和真空度双重互锁，安全可靠，任一条件触发，系统即可停止工作，防止因为误操作导致设备损坏； 19. 具备实时曲线显示系统工作状态——对于磁控溅射组件，可显示： （1） 真空度；（2）工作电流； 对于热蒸发组件，可显示： （1） 真空度；（2）工作电流；（3）工作电压。 20. 仪器尺寸为：424（L）×345（W）×420(H)mm,净重25kg； 21. 仪器供电为：220V/50Hz±10%，额定功率1200W。
售后服务 质保期:1年;商品承诺:质保期后，只收取零配件费，不收取人工费;

成交供应商：北京诺和 (略)
成交金额：无
成交理由：无
项目名称 高真空镀膜仪（临床医学研究中心超长期国债项目） 项目编号 WLU-HW-KS-NM-2024-1413
公告开始日期 * 公告截止日期 *
采购单位 西湖大学 付款方式 内贸部分：货到验收合格后付全款
联系人 中标后在我参与的项目中查看 联系电话 中标后在我参与的项目中查看
签约时间要求 无 到货时间要求 内贸部分：一周
预 算 *.0
收货地址 (略)
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件
采购商品 采购数量 计量单位 所属分类
高真空镀膜仪 1 台 无
品牌 无
型号 无
品牌2 无
型号 无
品牌3 无
型号 无
预算 *.0
技术参数及配置要求 1. 仪器采用了双组件设计，即可同时安装磁控溅射组件和热蒸发组件，利用磁控溅射组件可以对各种金属材料进行溅射镀膜；利用热蒸发组件在进行碳膜的制备，在两种工作模式切换时使用防污染挡板避免交叉污染。 2. 采用32位的ARM芯 (略) 理器，全自主知识产权，扩展性好，可选配膜厚监控组件； 3. 采用7英寸彩色触摸式液晶显示屏，分辨率为800×480，全中文操作界面，全数字显示。 3.1 对应磁控溅射：平面磁控靶结构，确保样品无热损伤 可设定：（1）溅射电流；（2）溅射时间；（3）靶材种类等参数； 可显示：（1）溅射电流；（2）溅射剩余时间；（3）工作真空度；（4）靶材累计使用时间；（5）设备累计使用时间；（6）分子泵转速、轴承温度、工作电流、电压；（7）当前使用靶材种类；（8）工作方式等参数。 3.2 对应热蒸发：采用4组蒸发源设计，方便用户使用，无需每次更换 可设定：（1）蒸发源使用数量（连续工作模式）；（2）蒸发脉冲数量（脉冲工作模式）；（3）系统开始工作真空度；（4）是否加热除气等； 可显示：（1）设备累计使用时间；（2）工作时加热电压；（3）剩余未工作蒸发源数量（连续工作模式）；（4）剩余脉冲数量（脉冲工作模式）；（5）系统实时真空度。 4. 真空室采用高硅硼玻璃，尺寸为约为200（O.D.）×130(H)mm; 5. 溅射电流：5-200mA连续可调，最小步长为1mA； 6. 溅射时长：1-999s连续可调，最小步长为1s; 7. 可用溅射靶材：所有金属靶材、ITO靶，本机内置15种靶材的溅射参数，可以直接使用。 8. 热蒸发组件具备连续工作模式和脉冲工作模式，适用所有样品； 9. 热蒸发组件最大可设定蒸发源为4组，采用0.8mm的进口高纯碳纤维做为蒸发源； 10. 热蒸发组件在抽真空时可以自动检测4组蒸发源的状态并显示在操作界面上，在工作时自动选择/切换状态完好的蒸发源进行工作； 11. 样品台尺寸：标配Φ60mm样品台两个（蒸发镀碳和溅射镀金各一个）；可选配倾斜行星转台等； 12. 高真空泵：进口涡轮分子泵，抽速为90L/s；系统可以实时读取分子泵的转速、电源、电流、轴承温度等参数，其中分子泵工作转速可在800Hz-1200Hz之间调整，便于用户更好的了解和使用分子泵。 13. 低真空泵：旋片式真空泵，抽速为1L/s; 14. 真空规管：进口复合规，量程为1E-3Pa到1E5Pa； 15. 系统极限真空：＜5E-3Pa； 16. 工作模式：具备自动和手动两种工作模式，可在系统内设置； 17. 样品台旋转：4-20rpm可调； 18. 具备溅射电流和真空度双重互锁，安全可靠，任一条件触发，系统即可停止工作，防止因为误操作导致设备损坏； 19. 具备实时曲线显示系统工作状态——对于磁控溅射组件，可显示： （1） 真空度；（2）工作电流； 对于热蒸发组件，可显示： （1） 真空度；（2）工作电流；（3）工作电压。 20. 仪器尺寸为：424（L）×345（W）×420(H)mm,净重25kg； 21. 仪器供电为：220V/50Hz±10%，额定功率1200W。
售后服务 质保期:1年;商品承诺:质保期后，只收取零配件费，不收取人工费;
    
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