高真空磁控溅射镀膜机合同公告
高真空磁控溅射镀膜机合同公告
杭州电子科技大学高真空磁控溅射镀膜机合同公告
一、合同编号:11N(略)8002
二、合同名称:杭州电子科技大学高真空磁控溅射镀膜机合同
三、项目编号:ZJWSBJ-HD-(略)G
四、项目名称:杭州电子科技大学高真空磁控溅射镀膜机
五、合同主体
采购人((略)方):杭州电子科技大学
地 址:杭州
联系方式:0571-(略)
供应商((略)方): (略)
地 址: (略) (略) (略) 77号升伟中环广场1号楼14-6
联系方式:(略)
六、合同主体信息
主要标的名称:高真空磁控溅射镀膜机
数量:1.00
单价(元):(略).00
规格型号(或服务要求):ATC 2200
2.合同金额(元):(略).00
3.履约期限、地点等简要信息:(略)方指定,12个月
4.采购方式:公开招标
七、合同签订日期:2024年12月06日
八、合同公告日期:2024年12月06日
九、其他补充事宜:无
附件信息:
杭州电子科技大学高真空磁控溅射镀膜机合同公告
一、合同编号:11N(略)8002
二、合同名称:杭州电子科技大学高真空磁控溅射镀膜机合同
三、项目编号:ZJWSBJ-HD-(略)G
四、项目名称:杭州电子科技大学高真空磁控溅射镀膜机
五、合同主体
采购人((略)方):杭州电子科技大学
地 址:杭州
联系方式:0571-(略)
供应商((略)方): (略)
地 址: (略) (略) (略) 77号升伟中环广场1号楼14-6
联系方式:(略)
六、合同主体信息
主要标的名称:高真空磁控溅射镀膜机
数量:1.00
单价(元):(略).00
规格型号(或服务要求):ATC 2200
2.合同金额(元):(略).00
3.履约期限、地点等简要信息:(略)方指定,12个月
4.采购方式:公开招标
七、合同签订日期:2024年12月06日
八、合同公告日期:2024年12月06日
九、其他补充事宜:无
附件信息:
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