一、合同编号：(略)-(略)-001-001

二、合同名称：高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统

三、项目编号（或政府采购计划编号、采购计划备案文号等，如有）：(略)-(略)

四、项目名称：高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统采购项目

五、合同主体

采购人（(略)方）：辽宁材料实验室

地 址： (略) 109-1号

联系方式：(略)

供应商（(略)方）： (略) 沈阳 (略)

地 址： (略) (略) 新源街1号

联系方式：(略)

六、合同主要信息

主要标的名称：高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统

规格型号（或服务要求）：PVD500

主要标的数量：1

主要标的单价：(略)

合同金额：(略)

履约期限、地点等简要信息：

采购方式：竞争性磋商

七、合同签订日期： 2024-11-27

八、合同公告日期：2025-01-08

九、其他补充事宜：

一、合同编号：(略)-(略)-001-001

二、合同名称：高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统

三、项目编号（或政府采购计划编号、采购计划备案文号等，如有）：(略)-(略)

四、项目名称：高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统采购项目

五、合同主体

采购人（(略)方）：辽宁材料实验室

地 址： (略) 109-1号

联系方式：(略)

供应商（(略)方）： (略) 沈阳 (略)

地 址： (略) (略) 新源街1号

联系方式：(略)

六、合同主要信息

主要标的名称：高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统

规格型号（或服务要求）：PVD500

主要标的数量：1

主要标的单价：(略)

合同金额：(略)

履约期限、地点等简要信息：

采购方式：竞争性磋商

七、合同签订日期： 2024-11-27

八、合同公告日期：2025-01-08

九、其他补充事宜：