磁控溅射薄膜制备系统PD-500C

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磁控溅射薄膜制备系统PD-500C


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基本信息：
国产含税
增值税普通发票
人民币
免费上门安装（含材料费）
货到验收合格后付款
申购明细：
序号
1
采购内容
磁控溅射薄膜制备系统PD- * C
数量
1套
预算单价
品牌
普迪真空
型号
PD- * C
规格参数
主要功能及目标：该系统适用于实验室制备金属单质、氧化物、介电质、半导体膜、扫描电镜制样电极材料制备等，整套设备操作简便，综合功能多，扩展空间大。采购标的满足的质量：1.？镀膜室极限真空：优于6E-6Pa（经烘烤除气后）；2.？镀膜室抽速测试：抽到工作真空（5E-4Pa）时间少于 * 分钟（干燥环境下恢复抽真空）；3.？系统漏率：≤2x * -7Pa.l/S（以氦质谱检漏仪测试指标考核）；4.？系统保压：系统抽至高真空后停泵关机保压 * 小时后真空度小于 * Pa；5.？基片加热：衬底最高加热温度 * ℃；6.？溅射尺寸：衬底基片最大4英寸，兼容4英寸、2英寸、Φ * mm、Φ * mm，以及小尺寸方形片。基片旋转速度：5～ * rpm连续可调；7.成膜质量：直径3英寸范围内均匀性优于±5%；
质保及售后服务
服务安全时限等：1年免费质保，安全性能高，售后承诺1小时内响应问题， * 般情况下 * 个工作日之内解决。如果 * 个工作日之内不能解决， (略) 件使用，如果无法通 (略) 件解决问题的，工程师在8小时 (略) 解决问题
严正声明：未经本平台授权，严禁以任何形式转载或使用本平台数据， * 经发现，依法追究法律责任。

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1
采购内容
磁控溅射薄膜制备系统PD- * C
数量
1套
预算单价
品牌
普迪真空
型号
PD- * C
规格参数
主要功能及目标：该系统适用于实验室制备金属单质、氧化物、介电质、半导体膜、扫描电镜制样电极材料制备等，整套设备操作简便，综合功能多，扩展空间大。采购标的满足的质量：1.？镀膜室极限真空：优于6E-6Pa（经烘烤除气后）；2.？镀膜室抽速测试：抽到工作真空（5E-4Pa）时间少于 * 分钟（干燥环境下恢复抽真空）；3.？系统漏率：≤2x * -7Pa.l/S（以氦质谱检漏仪测试指标考核）；4.？系统保压：系统抽至高真空后停泵关机保压 * 小时后真空度小于 * Pa；5.？基片加热：衬底最高加热温度 * ℃；6.？溅射尺寸：衬底基片最大4英寸，兼容4英寸、2英寸、Φ * mm、Φ * mm，以及小尺寸方形片。基片旋转速度：5～ * rpm连续可调；7.成膜质量：直径3英寸范围内均匀性优于±5%；
质保及售后服务
服务安全时限等：1年免费质保，安全性能高，售后承诺1小时内响应问题， * 般情况下 * 个工作日之内解决。如果 * 个工作日之内不能解决， (略) 件使用，如果无法通 (略) 件解决问题的，工程师在8小时 (略) 解决问题
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