中南大学-竞价公告(CB119422021002815)
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中南大学-竞价公告(CB119422021002815)
申购单号:CB 点击查看>>
申购主题:微流控器件微流道加工系统
采购单位: (略)
报价要求:
发票类型:增值税普通发票
币种:人民币
预算:
签约时间:发布中标结果后7天内签约合同
送货时间:合同签订后 * 天内送达
安装要求:免费上门安装（含材料费）
收货地址: (略) 省/ (略) 市/ (略) 区/点击查看>>*
付款方式:货到验收合格后付款
备注说明:申购明细：
| 序号 | 采购内容 | 数量 | 预算单价 |
| 1 | 微流控器件微流道加工系统 | 1.0 | |
| 品牌 | IOE | ||
| 型号 | URE- 点击查看>> L | ||
| 规格参数 | 1．技术参数1.1 曝光面积：4英寸1.2 曝光波长： * nm 1.3 分辨力：0.8μm-1μm1.4 对准精度：±0.8μm1.5 掩模样片整体运动范围：X： * mm;Y: * mm1.6 掩模尺寸：2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸1.7 样片尺寸：直径 * mm-- * mm及各种不规则片1.8 ★厚度可适应0.1mm--6mm(最大可扩展为 * mm)1.9 曝光方式：定时（倒计时方式）或定剂量1. * 具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光，以及接近式曝光 * 种功能1. * ★ (略) 对准显微镜：可通过目镜目视对准，也可通过CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 * 倍，光学+电子放大 * 倍，物镜 * 对：4倍、 * 倍、 * 倍，目镜 * 对： * 倍、 * 倍、 * 倍1. * 调平接触压力通过传感器保证重复1. * ★数字设定对准间隙和曝光间隙1. * ★具备压印模块接口，也具备接近模块接口1. * 掩模相对 (略) 程：X: ±5mm; Y: ±5mm;θ:±6o1. * ★最大焦厚： * μm（SU8胶）1. * (略) 性：2.5 o1. * 曝光能量密度：> * mW/cm * . * 单层曝光 * 键完成1. * 采用球气浮自动找平1. * 照明不均匀性： 小于2.5%（ 直径 * mm范围）；1. * ★曝光光源：紫外LED（进口）；2．外形尺寸：约 * mm（长）、 * mm(宽)、 * mm（高）3．配置：设备主要由均匀照明曝光系统（进口LED光源模块、整形模块、调节台、光学系统及冷却风扇灯）、对准工件台系统（掩膜整体运动台、相对运动台、转动台、调平机构、基片抽拉式上下机构、自动调焦机构、承片台4个，掩膜夹4个等）、对准系统（光源、电源、 (略) 显微镜主体、目镜3对、物镜3对，CCD对准、液晶显示器等）、电控系统、气动控制系统及真空泵、空压机等辅助配套设备构成。★项为必须响应项，代 (略) 家授权书 | ||
| 质保及售后服务 | 按行业标准提供服务 | ||
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申购主题:微流控器件微流道加工系统
采购单位: (略)
报价要求:
发票类型:增值税普通发票
币种:人民币
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签约时间:发布中标结果后7天内签约合同
送货时间:合同签订后 * 天内送达
安装要求:免费上门安装（含材料费）
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付款方式:货到验收合格后付款
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| 1 | 微流控器件微流道加工系统 | 1.0 | |
| 品牌 | IOE | ||
| 型号 | URE- 点击查看>> L | ||
| 规格参数 | 1．技术参数1.1 曝光面积：4英寸1.2 曝光波长： * nm 1.3 分辨力：0.8μm-1μm1.4 对准精度：±0.8μm1.5 掩模样片整体运动范围：X： * mm;Y: * mm1.6 掩模尺寸：2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸1.7 样片尺寸：直径 * mm-- * mm及各种不规则片1.8 ★厚度可适应0.1mm--6mm(最大可扩展为 * mm)1.9 曝光方式：定时（倒计时方式）或定剂量1. * 具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光，以及接近式曝光 * 种功能1. * ★ (略) 对准显微镜：可通过目镜目视对准，也可通过CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 * 倍，光学+电子放大 * 倍，物镜 * 对：4倍、 * 倍、 * 倍，目镜 * 对： * 倍、 * 倍、 * 倍1. * 调平接触压力通过传感器保证重复1. * ★数字设定对准间隙和曝光间隙1. * ★具备压印模块接口，也具备接近模块接口1. * 掩模相对 (略) 程：X: ±5mm; Y: ±5mm;θ:±6o1. * ★最大焦厚： * μm（SU8胶）1. * (略) 性：2.5 o1. * 曝光能量密度：> * mW/cm * . * 单层曝光 * 键完成1. * 采用球气浮自动找平1. * 照明不均匀性： 小于2.5%（ 直径 * mm范围）；1. * ★曝光光源：紫外LED（进口）；2．外形尺寸：约 * mm（长）、 * mm(宽)、 * mm（高）3．配置：设备主要由均匀照明曝光系统（进口LED光源模块、整形模块、调节台、光学系统及冷却风扇灯）、对准工件台系统（掩膜整体运动台、相对运动台、转动台、调平机构、基片抽拉式上下机构、自动调焦机构、承片台4个，掩膜夹4个等）、对准系统（光源、电源、 (略) 显微镜主体、目镜3对、物镜3对，CCD对准、液晶显示器等）、电控系统、气动控制系统及真空泵、空压机等辅助配套设备构成。★项为必须响应项，代 (略) 家授权书 | ||
| 质保及售后服务 | 按行业标准提供服务 | ||
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