砷化镓VGF炉8台需求

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砷化镓VGF炉8台需求



* 、资格条件合格供应商须具备以下资格条件,并具备承担本项目的相应能力:(1)在中华人民共和国境内合法注册,法律上和财务上独立于需求方,并能够提供项目拟采购货物和服务的独立法人;(2)具有良好的商业信誉和健全的财务制度,能够提供 * 年度的经审计的财务报表或 * 年度的财务会计报表(包括资产负债表、现金流量表、利润表);(3) (略) 于被责令停业,财产被接管、冻结、破产状态的承诺书, (略) 拟定;(4)具有良好的售后服务能力和业内良好口碑且无重 (略) 为,能提供 (略) 为承诺书并加盖公章, (略) 拟定。 * 、其他预算金额 * 万元,联系人:张雷兴 点击查看>> ";

本设备可用于4英寸、6英寸(半绝缘/低阻)砷化镓单晶生长,同时兼容VGF/VB两种工艺。推荐采用的工艺是:引晶、放肩和前端等径生长阶段采用VGF工艺,后端等径生长阶段采用VB工艺。

* 、设备组成

本设备由 * 段电阻丝加热器、加热器支架(快速、慢速升降功能)、控制柜(变压器、可控硅模块及控制电路)、英国欧 * T * 温控器系统及控制计算机(同时控制 * 个加热器) (略) 分组成。加热器采用无冷点绕丝技术,控制柜可根据客户要求尺寸订制,推荐使用 * * * * * mm的尺寸,便于散热。

* 、主要技术参数

最高加热温度: * ℃

控温精度:±0.1℃;

升降速率:慢速升降0.1~ * mm/h可调;快速升降;

设备最大加热功率: * KW;

尺寸及重量:加热器及支架 * × * × * (mm)、 * kg;

配电柜 * × * × * (mm)、 * kg。

配套提供砷化镓晶体生长控制软件,提供砷化镓6寸晶体生长技术支持,用于4英寸和6英寸砷化镓单晶生长,每套控制系统同时控制 * 个加热器。




* 、资格条件合格供应商须具备以下资格条件,并具备承担本项目的相应能力:(1)在中华人民共和国境内合法注册,法律上和财务上独立于需求方,并能够提供项目拟采购货物和服务的独立法人;(2)具有良好的商业信誉和健全的财务制度,能够提供 * 年度的经审计的财务报表或 * 年度的财务会计报表(包括资产负债表、现金流量表、利润表);(3) (略) 于被责令停业,财产被接管、冻结、破产状态的承诺书, (略) 拟定;(4)具有良好的售后服务能力和业内良好口碑且无重 (略) 为,能提供 (略) 为承诺书并加盖公章, (略) 拟定。 * 、其他预算金额 * 万元,联系人:张雷兴 点击查看>> ";

本设备可用于4英寸、6英寸(半绝缘/低阻)砷化镓单晶生长,同时兼容VGF/VB两种工艺。推荐采用的工艺是:引晶、放肩和前端等径生长阶段采用VGF工艺,后端等径生长阶段采用VB工艺。

* 、设备组成

本设备由 * 段电阻丝加热器、加热器支架(快速、慢速升降功能)、控制柜(变压器、可控硅模块及控制电路)、英国欧 * T * 温控器系统及控制计算机(同时控制 * 个加热器) (略) 分组成。加热器采用无冷点绕丝技术,控制柜可根据客户要求尺寸订制,推荐使用 * * * * * mm的尺寸,便于散热。

* 、主要技术参数

最高加热温度: * ℃

控温精度:±0.1℃;

升降速率:慢速升降0.1~ * mm/h可调;快速升降;

设备最大加热功率: * KW;

尺寸及重量:加热器及支架 * × * × * (mm)、 * kg;

配电柜 * × * × * (mm)、 * kg。

配套提供砷化镓晶体生长控制软件,提供砷化镓6寸晶体生长技术支持,用于4英寸和6英寸砷化镓单晶生长,每套控制系统同时控制 * 个加热器。


    
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