等离子增强型化学气相沉积设备竞价项目
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等离子增强型化学气相沉积设备竞价项目
| 项目号 | HW 点击查看>> | ||||||||||||||||||
| 设备品目类别 | 仪器设备 | 设备用途 | 科研 | ||||||||||||||||
| 竞价开始时间 | 点击查看>> * : * : * | 竞价结束时间 | 点击查看>> * : * : * | ||||||||||||||||
| 商品名称 | 等离子增强型化学气相沉积设备 | 品牌/厂家 | (略) 思联 | ||||||||||||||||
| 型号 | KF * | 数量 | 1 | ||||||||||||||||
| 计量单位 | 个 | 成交单价 | 点击查看>> . * 元 | ||||||||||||||||
| 成交供应商 | (略) (略) | 保修年限 | 2年 | ||||||||||||||||
| 技术指标 | 1. 反应腔室1）方形基片有效尺寸 * cm× * cm；2）基板和电极之间的距离可根据 (略) 调节；3）长膜时，腔室内的气体流量、压力可以根据 (略) 调节；4）生长的薄膜厚度均匀性小于+/- * ％（厚度在 点击查看>> nm） （9点法测量：Uniformity = [(Max-Min) / (Max+Min)* * %]）；5）可对腔室内的 (略) 检测，并有清排装置；6）提供观察窗，方 (略) 观察；7）绝对压力检测系统（薄膜规）2. 真空系统1） (略) 分，干泵；2） (略) 分，分子泵；3）反应腔室极限真空优于1× * －5 Pa，工作真空约 * － * Pa；从常压抽到1× * －4Pa，时间不超过 * 分钟。3. 加热系统1）反应腔室内，基板温度至少达到 * ℃；2）控温精读为±1℃（进口电温控表，品牌：日本岛电）；3）温度均匀性达到± * 度（9点法测试标准）；4）带有温度传感器，可以实时监测基板温度；5）可以控制升温和降温的速率；4. 气路系统1）4条气路，所需工艺气体为： SiH4、N2O、NH3、N2；2）另外预留两条气路接口；3）气体流量可控；4）带有安全防爆气路柜+气路（带气路反充洗功能 泄露报警器 ），N2O、NH3、N2采用特气专用质量流量控制器+专用电磁阀+进口隔膜阀（气动）；SiH4采用进口质量流量控制器（品牌： (略) ）+进口隔膜阀（气动）；安全进气总阀门；进口隔膜阀（气动 急停控制）+高真空电磁阀5. 反应源1）方式；多孔喷淋式2）尺寸；6英寸6. 射频电源1）供电AC * V/ * Hz/ * A2）输出 * . * MHz(±0.1%)3）匹配器：自动匹配7. 其他辅助设备1）照明系统：腔室内安装照明系统， (略) 系统的观察；2）腔室的清洗方便， (略) 的清洗方案；3）所有腔室要求使用不锈钢材料加工制造，高洁净度（放置超净室）；4）控制系统：(自动抽真空+自动关机+保护互锁装置+安全急停)；5）排气管：不锈钢（或不可燃材料），带有氮气稀释接口 | ||||||||||||||||||
| 安装及售后要求 | 1.电源要求： * V/ * V， * Hz2.洁净级别要求：千级超净室3. 原厂 (略) 安装调试，安 (略) 培训。 | ||||||||||||||||||
| 附件 | 无 | ||||||||||||||||||
| 项目号 | HW 点击查看>> | ||||||||||||||||||
| 设备品目类别 | 仪器设备 | 设备用途 | 科研 | ||||||||||||||||
| 竞价开始时间 | 点击查看>> * : * : * | 竞价结束时间 | 点击查看>> * : * : * | ||||||||||||||||
| 商品名称 | 等离子增强型化学气相沉积设备 | 品牌/厂家 | (略) 思联 | ||||||||||||||||
| 型号 | KF * | 数量 | 1 | ||||||||||||||||
| 计量单位 | 个 | 成交单价 | 点击查看>> . * 元 | ||||||||||||||||
| 成交供应商 | (略) (略) | 保修年限 | 2年 | ||||||||||||||||
| 技术指标 | 1. 反应腔室1）方形基片有效尺寸 * cm× * cm；2）基板和电极之间的距离可根据 (略) 调节；3）长膜时，腔室内的气体流量、压力可以根据 (略) 调节；4）生长的薄膜厚度均匀性小于+/- * ％（厚度在 点击查看>> nm） （9点法测量：Uniformity = [(Max-Min) / (Max+Min)* * %]）；5）可对腔室内的 (略) 检测，并有清排装置；6）提供观察窗，方 (略) 观察；7）绝对压力检测系统（薄膜规）2. 真空系统1） (略) 分，干泵；2） (略) 分，分子泵；3）反应腔室极限真空优于1× * －5 Pa，工作真空约 * － * Pa；从常压抽到1× * －4Pa，时间不超过 * 分钟。3. 加热系统1）反应腔室内，基板温度至少达到 * ℃；2）控温精读为±1℃（进口电温控表，品牌：日本岛电）；3）温度均匀性达到± * 度（9点法测试标准）；4）带有温度传感器，可以实时监测基板温度；5）可以控制升温和降温的速率；4. 气路系统1）4条气路，所需工艺气体为： SiH4、N2O、NH3、N2；2）另外预留两条气路接口；3）气体流量可控；4）带有安全防爆气路柜+气路（带气路反充洗功能 泄露报警器 ），N2O、NH3、N2采用特气专用质量流量控制器+专用电磁阀+进口隔膜阀（气动）；SiH4采用进口质量流量控制器（品牌： (略) ）+进口隔膜阀（气动）；安全进气总阀门；进口隔膜阀（气动 急停控制）+高真空电磁阀5. 反应源1）方式；多孔喷淋式2）尺寸；6英寸6. 射频电源1）供电AC * V/ * Hz/ * A2）输出 * . * MHz(±0.1%)3）匹配器：自动匹配7. 其他辅助设备1）照明系统：腔室内安装照明系统， (略) 系统的观察；2）腔室的清洗方便， (略) 的清洗方案；3）所有腔室要求使用不锈钢材料加工制造，高洁净度（放置超净室）；4）控制系统：(自动抽真空+自动关机+保护互锁装置+安全急停)；5）排气管：不锈钢（或不可燃材料），带有氮气稀释接口 | ||||||||||||||||||
| 安装及售后要求 | 1.电源要求： * V/ * V， * Hz2.洁净级别要求：千级超净室3. 原厂 (略) 安装调试，安 (略) 培训。 | ||||||||||||||||||
| 附件 | 无 | ||||||||||||||||||
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