北京师范大学珠海分校-竞价公告(CB190272021000437)
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北京师范大学珠海分校-竞价公告(CB190272021000437)
申购单号:CB 点击查看>>
申购主题:高真空磁控溅射薄膜沉积系统采购
采购单位: (略) (略) 分校
报价要求:
发票类型:增值税普通发票
币种:人民币
预算:
签约时间:发布竞价结果后7天内签约合同
送货时间:合同签订后7天内送达
安装要求:免费上门安装（含材料费）
收货地址: (略) 省/ (略) 市/ (略) 区/点击查看>>*
付款方式:货到验收合格后付款
备注说明:申购明细：
| 序号 | 采购内容 | 数量 | 预算单价 |
| 1 | PVD沉积镀膜控制系统 | 1.0 | 套 |
| 品牌 | (略) (略) (略) | ||
| 型号 | V2.3 | ||
| 规格参数 | 系统由工业级工控机和PLC控制，有自动控制和手动控制两种功能，采用自动控制：1、样品完成安装后，系统具有自动 (略) 功能，设定好目标真空度、样品目标加热温度时长等内容、溅射电源工作参数，系统自动开始抽真空，达到目标真空度后开始加热，达到目标温度后，根据设定的功率开启溅射电源，溅射时间以设定的工作参数为准；2、同时对溅射电源的功率和溅射时间可以设定多个数值，实现不同输出功率、不同镀膜时间的控制，进而实现单靶溅射、多靶轮流溅射；3、系统检测工艺试验结束后自动通入保护气体，破除真空，并提醒工艺结束。手动控制：即实验过程的点动控制，操作对象包括：1、旁抽阀、前级阀、插板阀、放气阀的开关；2、机械泵和分子泵的启停；3、烘烤照明的开关；4、样品挡板的开关；5、样品自转速度的设定；6、样品加热目标温度的设定；7、设定溅射功率；8、设定气体流量。。 系统提供工艺参数记录和分析，参数具有导入和导出功能。历史工艺参数 (略) 。需包含供电模块、加温模块、测温模块、器件转动模块、溅射电源直流溅射电源功率不低于 * w 射频溅射电源功率不低于 * w；*包含不低于 * 英寸触控屏，控制软件为正版软件，需提供著作权证明文件；程序需提供自助编程功能，要求对工艺存档不低于 * 个月； | ||
| 质保及售后服务 | 按行业标准提供服务要求 * 号前完成送货上门， (略) 安装和调试，同时完成仪器使用培训等服务。质保1年，1小时售后响应， * 小时内售后 (略) 处理， (略) 家售后承诺函 | ||
| 序号 | 采购内容 | 数量 | 预算单价 |
| 2 | 高真空磁控溅射薄膜沉积系统 | 1.0 | 套 |
| 品牌 | (略) (略) (略) | ||
| 型号 | TRP * | ||
| 规格参数 | * 、系统功能及构成该系统为单室结构，主要由溅射真空室、磁控溅射靶、旋转加热基片台、加热系统、直流电源、射频电源、工作气路、真空获得系统、安装机台、真空测量、水冷却及报警系统和 (略) 分组成，可用于金属薄膜、介质膜等的制备。 * 、系统的主要组成及技术指标溅射室极限真空度：≤6.6x * -6Pa(经烘烤除气后)；（洁净真空环境）系统从大气开始抽气：溅射室 * 分钟可达到6.6x * -4 Pa；（抽速快，缩短实验准备时间）系统停泵关机 * 小时后真空度：≤ * Pa；1、溅射真空室 真空室为圆筒形前开门结构，尺寸Ф * mmx * mm，全不锈钢结构。可内烘烤到 * ～ * ℃，选用不锈钢材料制造，氩弧焊接， (略) 电化学抛光国 (略) 理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；手动前开门结构；靶安装在下底盘，基片转台在上盖板（也可以设计为靶在上、基片台在下的结构方式）。真空室组件上焊有各种规格的法兰接口如下：1.1、Dg * 法兰接口：1个（观察窗口）；1.2、Dg * 法兰接口：5个（进气阀、放气阀、热偶规管，电极引线，备用1个）；1.3、Dg * 法兰接口：5个(电离规管、旁抽阀、外照明、备用2个)；1.4、Dg * 法兰接口：1个（接分子泵）；1.5、Dg * 法兰接口：1个（用来安装磁控靶和靶挡板）1.6、Dg * 法兰接口：1个（用来安装样品台）2、磁控溅射系统：3套2.1、靶材尺寸： * mm（可兼容2英寸靶材）；2.2、提供靶材：不锈钢、钛、铁各 * 块（仅供测试靶材用）；2.3、永磁靶（其中 * 个可溅射磁性材料)，射频溅射与直流溅射兼容，靶内水冷；2.4、每个靶都配备气动控制挡板组件1套；2.5、靶在下，向上溅射，具有单独溅射、轮流溅射、共溅射功能；2.6、暴露大气下，磁控靶可手动调节共溅射角度；2.7、 * w直流电源，2台；2.8、 * w全自动调谐射频电源，1台；2.9、磁控靶与基片的距离可调，调节距离为： * ~ * mm。3、旋转加热基片台3.1、基片尺寸和数量：最大可放置1片4英寸圆形样品；3.2、基片通过进口加热丝加热方式，加热炉加热温度：室温～ * °C，连续可调；加热装置在真空室上法兰上，对 (略) 加热，通过热电偶控制控温电源实现闭环控制，系统由加热器和1个加热控温电源组成，加热电源配备日本进口控温表，控温方式为PID自动控温及数字显示； 3.3、基片自转速度5～ * 转/分连续可调；3.4、气动控制样品挡板组件 1套；3.5、样品台安装- * V偏压电源（辅助沉积）。4、窗口 (略) 件4.1、Dg * 玻璃窗口：1块，带衬玻璃；Dg * 外照明玻璃窗口：1块，带衬玻璃；4.2、Dg * 陶瓷封接引线法兰：1个（内烘烤引线）；4.3、盲法兰：Dg * ：1个；Dg * ：2个。5、工作气路5.1、 * SCCM、 * SCCM质量流量控制器、Dg * 截止阀、管路、接头等共3路；经过混气室，由Dg * 进气阀往真空室内充入工作气体。5.2、Dg * 放气阀、管路、接头等：1路（解除真空充入氮气）；6、抽气机组及阀门、管道（此配置抽速快、真空度高）6.1、脂润滑分子泵及变频控制电源（ * L/S）：1台；6.2、旋片真空泵（8L/S）：1台；6.3、插板阀CF * ：1台（用于复合分子泵与真空室隔离）； 6.4、旁抽角阀DN * ：1台；6.5、高真空挡板阀DN * ：1台；6.6、电磁压差式充气阀DN * ：1台。 6.7、分子泵与机械泵软联接金属软管：1套；6.8、机械泵与真空室之间的旁抽管路：1套；7、安装机台架组件优质铝型材拼装成，快卸围 (略) 理；机台表面用不锈钢蒙皮装饰； * 个脚轮，可固定，可移动。8、真空测量：采用数 (略) 测量，测量范围：1x * Pa-5x * -7Pa. 工艺真空测量：采用薄膜压 (略) 测量，测量范围： * Pa-0. * Pa. | ||
| 质保及售后服务 | 按行业标准提供服务要求 * 号前完成送货上门， (略) 安装和调试，同时完成仪器使用培训等服务。质保1年，1小时售后响应， * 小时内售后 (略) 处理， (略) 家售后承诺函 | ||
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申购主题:高真空磁控溅射薄膜沉积系统采购
采购单位: (略) (略) 分校
报价要求:
发票类型:增值税普通发票
币种:人民币
预算:
签约时间:发布竞价结果后7天内签约合同
送货时间:合同签订后7天内送达
安装要求:免费上门安装（含材料费）
收货地址: (略) 省/ (略) 市/ (略) 区/点击查看>>*
付款方式:货到验收合格后付款
备注说明:申购明细：
| 序号 | 采购内容 | 数量 | 预算单价 |
| 1 | PVD沉积镀膜控制系统 | 1.0 | 套 |
| 品牌 | (略) (略) (略) | ||
| 型号 | V2.3 | ||
| 规格参数 | 系统由工业级工控机和PLC控制，有自动控制和手动控制两种功能，采用自动控制：1、样品完成安装后，系统具有自动 (略) 功能，设定好目标真空度、样品目标加热温度时长等内容、溅射电源工作参数，系统自动开始抽真空，达到目标真空度后开始加热，达到目标温度后，根据设定的功率开启溅射电源，溅射时间以设定的工作参数为准；2、同时对溅射电源的功率和溅射时间可以设定多个数值，实现不同输出功率、不同镀膜时间的控制，进而实现单靶溅射、多靶轮流溅射；3、系统检测工艺试验结束后自动通入保护气体，破除真空，并提醒工艺结束。手动控制：即实验过程的点动控制，操作对象包括：1、旁抽阀、前级阀、插板阀、放气阀的开关；2、机械泵和分子泵的启停；3、烘烤照明的开关；4、样品挡板的开关；5、样品自转速度的设定；6、样品加热目标温度的设定；7、设定溅射功率；8、设定气体流量。。 系统提供工艺参数记录和分析，参数具有导入和导出功能。历史工艺参数 (略) 。需包含供电模块、加温模块、测温模块、器件转动模块、溅射电源直流溅射电源功率不低于 * w 射频溅射电源功率不低于 * w；*包含不低于 * 英寸触控屏，控制软件为正版软件，需提供著作权证明文件；程序需提供自助编程功能，要求对工艺存档不低于 * 个月； | ||
| 质保及售后服务 | 按行业标准提供服务要求 * 号前完成送货上门， (略) 安装和调试，同时完成仪器使用培训等服务。质保1年，1小时售后响应， * 小时内售后 (略) 处理， (略) 家售后承诺函 | ||
| 序号 | 采购内容 | 数量 | 预算单价 |
| 2 | 高真空磁控溅射薄膜沉积系统 | 1.0 | 套 |
| 品牌 | (略) (略) (略) | ||
| 型号 | TRP * | ||
| 规格参数 | * 、系统功能及构成该系统为单室结构，主要由溅射真空室、磁控溅射靶、旋转加热基片台、加热系统、直流电源、射频电源、工作气路、真空获得系统、安装机台、真空测量、水冷却及报警系统和 (略) 分组成，可用于金属薄膜、介质膜等的制备。 * 、系统的主要组成及技术指标溅射室极限真空度：≤6.6x * -6Pa(经烘烤除气后)；（洁净真空环境）系统从大气开始抽气：溅射室 * 分钟可达到6.6x * -4 Pa；（抽速快，缩短实验准备时间）系统停泵关机 * 小时后真空度：≤ * Pa；1、溅射真空室 真空室为圆筒形前开门结构，尺寸Ф * mmx * mm，全不锈钢结构。可内烘烤到 * ～ * ℃，选用不锈钢材料制造，氩弧焊接， (略) 电化学抛光国 (略) 理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；手动前开门结构；靶安装在下底盘，基片转台在上盖板（也可以设计为靶在上、基片台在下的结构方式）。真空室组件上焊有各种规格的法兰接口如下：1.1、Dg * 法兰接口：1个（观察窗口）；1.2、Dg * 法兰接口：5个（进气阀、放气阀、热偶规管，电极引线，备用1个）；1.3、Dg * 法兰接口：5个(电离规管、旁抽阀、外照明、备用2个)；1.4、Dg * 法兰接口：1个（接分子泵）；1.5、Dg * 法兰接口：1个（用来安装磁控靶和靶挡板）1.6、Dg * 法兰接口：1个（用来安装样品台）2、磁控溅射系统：3套2.1、靶材尺寸： * mm（可兼容2英寸靶材）；2.2、提供靶材：不锈钢、钛、铁各 * 块（仅供测试靶材用）；2.3、永磁靶（其中 * 个可溅射磁性材料)，射频溅射与直流溅射兼容，靶内水冷；2.4、每个靶都配备气动控制挡板组件1套；2.5、靶在下，向上溅射，具有单独溅射、轮流溅射、共溅射功能；2.6、暴露大气下，磁控靶可手动调节共溅射角度；2.7、 * w直流电源，2台；2.8、 * w全自动调谐射频电源，1台；2.9、磁控靶与基片的距离可调，调节距离为： * ~ * mm。3、旋转加热基片台3.1、基片尺寸和数量：最大可放置1片4英寸圆形样品；3.2、基片通过进口加热丝加热方式，加热炉加热温度：室温～ * °C，连续可调；加热装置在真空室上法兰上，对 (略) 加热，通过热电偶控制控温电源实现闭环控制，系统由加热器和1个加热控温电源组成，加热电源配备日本进口控温表，控温方式为PID自动控温及数字显示； 3.3、基片自转速度5～ * 转/分连续可调；3.4、气动控制样品挡板组件 1套；3.5、样品台安装- * V偏压电源（辅助沉积）。4、窗口 (略) 件4.1、Dg * 玻璃窗口：1块，带衬玻璃；Dg * 外照明玻璃窗口：1块，带衬玻璃；4.2、Dg * 陶瓷封接引线法兰：1个（内烘烤引线）；4.3、盲法兰：Dg * ：1个；Dg * ：2个。5、工作气路5.1、 * SCCM、 * SCCM质量流量控制器、Dg * 截止阀、管路、接头等共3路；经过混气室，由Dg * 进气阀往真空室内充入工作气体。5.2、Dg * 放气阀、管路、接头等：1路（解除真空充入氮气）；6、抽气机组及阀门、管道（此配置抽速快、真空度高）6.1、脂润滑分子泵及变频控制电源（ * L/S）：1台；6.2、旋片真空泵（8L/S）：1台；6.3、插板阀CF * ：1台（用于复合分子泵与真空室隔离）； 6.4、旁抽角阀DN * ：1台；6.5、高真空挡板阀DN * ：1台；6.6、电磁压差式充气阀DN * ：1台。 6.7、分子泵与机械泵软联接金属软管：1套；6.8、机械泵与真空室之间的旁抽管路：1套；7、安装机台架组件优质铝型材拼装成，快卸围 (略) 理；机台表面用不锈钢蒙皮装饰； * 个脚轮，可固定，可移动。8、真空测量：采用数 (略) 测量，测量范围：1x * Pa-5x * -7Pa. 工艺真空测量：采用薄膜压 (略) 测量，测量范围： * Pa-0. * Pa. | ||
| 质保及售后服务 | 按行业标准提供服务要求 * 号前完成送货上门， (略) 安装和调试，同时完成仪器使用培训等服务。质保1年，1小时售后响应， * 小时内售后 (略) 处理， (略) 家售后承诺函 | ||
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